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1. (WO2019039355) COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/039355 国际申请号: PCT/JP2018/030292
公布日: 28.02.2019 国际申请日: 14.08.2018
国际专利分类:
G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
09
以细部结构为特征的,例如,基片层、辅助层
11
具有覆盖层或中间层的,例如,(使感光乳剂固着于片基的)胶层
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
027
未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
申请人:
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
发明人:
緒方 裕斗 OGATA, Hiroto; JP
臼井 友輝 USUI, Yuki; JP
遠藤 雅久 ENDO, Masahisa; JP
岸岡 高広 KISHIOKA, Takahiro; JP
代理人:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
优先权数据:
2017-16148024.08.2017JP
标题 (EN) COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM
(FR) COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSINE
(JA) レジスト下層膜形成組成物
摘要:
(EN) [Problem] To provide a novel composition for forming a resist underlayer film. [Solution] A composition for forming a resist underlayer film, which contains a copolymer having a constituent unit represented by formula (1) and a solvent. (In the formula, X represents a bivalent linear hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, wherein the bivalent linear hydrocarbon group may have at least one sulfur or oxygen atom in the main chain thereof and may have at last one hydroxy group as a substituent; R represents a linear hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms; and two n's independently represent 0 or 1.)
(FR) L'invention concerne une nouvelle composition de formation d'un film de sous-couche de résine. La solution selon l'invention porte sur une composition pour la formation d'un film de sous-couche de résine qui contient un copolymère ayant une unité structurelle représentée par la formule (1), et un solvant. Dans la formule, X représente un groupe hydrocarbure linéaire bivalent ayant 2 à 10 atomes de carbone, le groupe hydrocarbure linéaire bivalent pouvant avoir au moins un atome de soufre ou d'oxygène dans sa chaîne principale et pouvant avoir au moins un groupe hydroxy en tant que substituant; R représente un groupe hydrocarbure linéaire ayant de 1 à 10 atomes de carbone; et deux n représentent indépendamment 0 ou 1.
(JA) 【課題】 新規なレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される構造単位を有する共重合体及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物。(上記式中、Xは炭素原子数2乃至10の二価の鎖状炭化水素基を表し、該二価の鎖状炭化水素基は、主鎖に硫黄原子又は酸素原子を少なくとも1つ有していてもよく、また置換基としてヒドロキシ基を少なくとも1つ有していてもよく、Rは炭素原子数1乃至10の鎖状炭化水素基を表し、2つのnはそれぞれ0又は1を表す。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)