此应用程序的某些内容目前无法使用。
如果这种情况持续存在,请联系我们反馈与联系
1. (WO2019038833) METHOD FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASK AND APPARATUS FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASK
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/038833 国际申请号: PCT/JP2017/029950
公布日: 28.02.2019 国际申请日: 22.08.2017
国际专利分类:
C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/14 (2006.01)
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
51
使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
50
专门适用于光发射的,如有机发光二极管 (OLED)或聚合物发光器件(PLED)
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
10
专门适用于制造电致发光光源的设备或方法
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
12
实质上有二维辐射表面的光源
14
以电致发光材料的化学成分或物理组成或其配置为特征的
申请人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
发明人:
江角 真一 ESUMI, Shinichi; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
优先权数据:
标题 (EN) METHOD FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASK AND APPARATUS FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造装置
摘要:
(EN) A method for producing a vapor deposition mask provided with a frame (41) comprising a first splint (41a) and second splint (41b) that extend in a first direction and at least one mask sheet (40), wherein at least one mask sheet is stretched on the first splint and second splint with the outside of the first splint being pressed in the direction from the first splint towards the second splint and the outside of the second splint being pressed in the direction from the second splint towards the first splint.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un masque de dépôt en phase vapeur, pourvu d'un cadre (41), qui comprend une première éclisse (41a) et une seconde éclisse (41b) qui s'étendent dans une première direction et au moins une feuille de masque (40). Au moins une feuille de masque est tendue sur la première éclisse et la seconde éclisse, l'extérieur de la première éclisse étant pressé dans la direction allant de la première éclisse vers la seconde éclisse et l'extérieur de la seconde éclisse étant pressé dans la direction allant de la seconde éclisse vers la première éclisse.
(JA) 第1方向に伸びる、第1辺材(41a)および第2辺材(41b)を含むフレーム(41)と、1以上のマスクシート(40)とを備える蒸着マスクの製造方法であって、前記第1辺材の外側を前記第1辺材から前記第2辺材に向かう方向に押圧するとともに、前記第2辺材の外側を前記第2辺材から前記第1辺材に向かう方向に押圧した状態で、前記第1辺材および前記第2辺材に1以上のマスクシートを架張する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)