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1. (WO2019033307) 废液存储装置和湿式蚀刻系统
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/033307 国际申请号: PCT/CN2017/097696
公布日: 21.02.2019 国际申请日: 16.08.2017
国际专利分类:
C02F 9/06 (2006.01) ,C02F 1/72 (2006.01) ,B65D 88/54 (2006.01)
C 化学;冶金
02
水、废水、污水或污泥的处理
F
水、废水、污水或污泥的处理
9
水、废水或污水的多级处理
04
至少有一个化学处理步骤
06
电化学处理
C 化学;冶金
02
水、废水、污水或污泥的处理
F
水、废水、污水或污泥的处理
1
水、废水或污水的处理
72
氧化法
B 作业;运输
65
输送;包装;贮存;搬运薄的或细丝状材料
D
用于物件或物料贮存或运输的容器,如袋、桶、瓶子、箱盒、罐头、纸板箱、板条箱、圆桶、罐、槽、料仓、运输容器;所用的附件、封口或配件;包装元件;包装件
88
大型容器
54
以使用便于装料或排空装置为特点的
申请人:
深圳市柔宇科技有限公司 SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区横岗街道龙岗大道8288号大运软件小镇43栋 Building #43, Dayun Software Town, No. 8288 Longgang Road, Henggang Street, Longgang District Shenzhen, Guangdong 518052, CN
发明人:
徐蕊 XU, Rui; CN
曹飞 CAO, Fei; CN
钟仁聪 ZHONG, Rencong; CN
代理人:
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; 中国北京市 清华园清华大学照澜院商业楼301室 Room 301 Trade Building, Zhaolanyuan, Tsinghua University, Qinghuayuan Beijing 100084, CN
优先权数据:
标题 (EN) WASTE LIQUID STORAGE DEVICE AND WET ETCHING SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE STOCKAGE DE DÉCHETS LIQUIDES ET SYSTÈME DE GRAVURE HUMIDE
(ZH) 废液存储装置和湿式蚀刻系统
摘要:
(EN) A waste liquid storage device (10) and a wet etching system having the waste liquid storage device (10), for storing a waste liquid (20) generated by wet etching. The waste liquid (20) comprises a first solute (22) and a second solute (24), and the second solute (24) is a catalyst for an exothermic oxidation reaction of the first solute (22). The waste liquid storage device (10) comprises a first liquid storage tank (11) and a first conduit (12) for connecting an external complexant solution source (30) with the first liquid storage tank (11). The first liquid storage tank (11) is used for storing the waste liquid (20), the first conduit (12) is used for channeling a complexant (32) to the first liquid storage tank (11), and the complexant (32) is used to inhibit the catalytic ability of the second solute (24) for reaction of the first solute (22). The wet etching system (100) comprises a wet etching machine (40) for etching workpieces and generating the waste liquid (20), and the waste liquid storage device (10).
(FR) Un dispositif de stockage de déchets liquides (10) et un système de gravure humide comprenant le dispositif de stockage de déchets liquides (10), pour stocker un liquide résiduaire (20) généré par gravure humide. Le liquide résiduaire (20) comprend un premier soluté (22) et un second soluté (24), le second soluté (24) étant un catalyseur pour une réaction d'oxydation exothermique du premier soluté (22). Le dispositif de stockage de déchets liquides (10) comprend un premier réservoir de stockage de liquide (11) et un premier conduit (12) pour relier une source de solution de complexant externe (30) au premier réservoir de stockage de liquide (11). Le premier réservoir de stockage de liquide (11) est utilisé pour stocker les déchets liquides (20), le premier conduit (12) est utilisé pour acheminer un complexant (32) vers le premier réservoir de stockage de liquide (11), et le complexant (32) est utilisé pour inhiber l'action catalytique du second soluté (24) dans la réaction du premier soluté (22). Le système de gravure humide (100) comprend une machine de gravure humide (40) pour graver des pièces et générer les déchets liquides (20), et le dispositif de stockage de déchets liquides (10).
(ZH) 一种废液存储装置(10)及具有该废液存储装置(10)的湿式蚀刻系统,用于存储湿式蚀刻产生的废液(20),废液(20)包括第一溶质(22)和第二溶质(24),第二溶质(24)为第一溶质(22)发生放热氧化反应的催化剂,废液存储装置(10)包括第一储液罐(11)和连接外部的络合剂溶液源(30)与第一储液罐(11)的第一管路(12),第一储液罐(11)用于存储废液(20),第一管路(12)用于将络合剂(32)导引到第一储液罐(11),络合剂(32)用于抑制第二溶质(24)对第一溶质(22)反应的催化能力。其中,湿式蚀刻系统(100)包括用于蚀刻工件和产生废液(20)的湿式蚀刻机台(40)和废液存储装置(10)。
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 中文 (ZH)
申请语言: 中文 (ZH)