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1. (WO2019032753) MATERIALS, COMPONENT, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/032753 国际申请号: PCT/US2018/045878
公布日: 14.02.2019 国际申请日: 08.08.2018
国际专利分类:
G02B 1/10 (2015.01) ,G02B 5/08 (2006.01) ,G03F 1/24 (2012.01)
G PHYSICS
02
光学
B
光学元件、系统或仪器
1
按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层
10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G PHYSICS
02
光学
B
光学元件、系统或仪器
5
除透镜外的光学元件
08
反射镜
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
1
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
22
用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
24
反射掩膜;其制备
申请人:
JAISWAL, Supriya [GB/US]; US
发明人:
JAISWAL, Supriya; US
代理人:
KOLEGRAFF, William, J.; US
优先权数据:
62/542,73408.08.2017US
标题 (EN) MATERIALS, COMPONENT, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS
(FR) MATÉRIAUX, COMPOSANT, ET PROCÉDÉS D'UTILISATION AVEC UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME EN LITHOGRAPHIE ET DANS D'AUTRES APPLICATIONS
摘要:
(EN) New classes of materials and associated components for use in devices and systems operating at ultraviolet (UV), extreme ultraviolet (EUV), and/or soft X-ray wavelengths are described. This invention relates to increasing the bandwidth and general performance of EUV reflective and transmissive materials. Such a material structure and combination may be used to make components such as mirrors, lenses or other optics, panels, light sources, photomasks, photoresists, or other components for use in applications such as lithography, wafer patterning, astronomical and space applications, biomedical applications, or other applications.
(FR) L'invention concerne de nouvelles classes de matériaux et des composants associés destinés à être utilisés dans des dispositifs et des systèmes fonctionnant à des longueurs d'ondes de l'ultraviolet (UV), de l'ultraviolet extrême (EUV) et/ou du rayon X doux. La présente invention concerne l'augmentation de la largeur de bande et la performance générale de matériaux réfléchissants et transmissifs de l'ultraviolet extrême EUV. Une telle structure et combinaison de matériaux peut être utilisée pour fabriquer des composants tels que des miroirs, des lentilles ou d'autres éléments optiques, des panneaux, des sources lumineuses, des masques photographiques, des résines photosensibles ou d'autres composants destinés à être utilisés dans des applications telles que la lithographie, le modelage de contours sur plaquettes, des applications astronomiques et spatiales, des applications biomédicales, ou d'autres applications.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)