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1. WO2019032730 - VARIABLE APERTURE MASK

公布号 WO/2019/032730
公布日 14.02.2019
国际申请号 PCT/US2018/045852
国际申请日 08.08.2018
国际专利分类
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
1
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
68
未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺
82
辅助工艺,例如清洗
84
检查
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
66
在制造或处理过程中的测试或测量
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
G03F 7/20 (2006.01)
G03F 1/84 (2012.01)
H01L 21/66 (2006.01)
H01L 21/67 (2006.01)
CPC
G01J 3/0229
G01J 3/0237
G01J 4/00
G01N 2021/213
G01N 21/211
G02B 27/28
申请人
  • KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
发明人
  • BLASENHEIM, Barry; US
  • SAPIENS, Noam; US
  • FRIEDMANN, Michael; US
  • ROVIRA, Pablo; US
代理人
  • MCANDREWS, Kevin; US
  • MORRIS, Elizabeth M. N.; US
优先权数据
16/056,24406.08.2018US
62/543,31509.08.2017US
公布语言 英语 (EN)
申请语言 英语 (EN)
指定国
标题
(EN) VARIABLE APERTURE MASK
(FR) MASQUE PERFORÉ AJUSTABLE
摘要
(EN)
In some embodiments, a collection system of a semiconductor metrology tool includes a chuck to support a target from which an optical beam is reflected and an aperture mask to provide an adjustable aperture for the reflected optical beam. The aperture mask includes a plurality of opaque plates with adjustable positions. The collection system also includes a spectrometer to receive the reflected optical beam. The aperture mask is situated between the chuck and the spectrometer along the optical axis.
(FR)
Dans certains de ses modes de réalisation, la présente invention concerne un système de collecte d'un outil de métrologie semi-conducteur qui comprend un mandrin pour supporter une cible à partir de laquelle un faisceau optique est réfléchi ainsi qu'un masque perforé pour fournir une ouverture ajustable pour le faisceau optique réfléchi. Le masque perforé comprend une pluralité de plaques opaques ayant des positions ajustables. Le système de collecte comprend également un spectromètre pour recevoir le faisceau optique réfléchi. Le masque perforé est situé entre le mandrin et le spectromètre le long de l'axe optique.
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