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1. (WO2019029237) WAFER BONDING METHOD AND STRUCTURE THEREOF
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公布号: WO/2019/029237 国际申请号: PCT/CN2018/088954
公布日: 14.02.2019 国际申请日: 30.05.2018
国际专利分类:
H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/50 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
50
应用H01L 21/06至H01L 21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的
申请人:
YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; Room 7018, No.18, Huaguang Road, Guandong Science and Technology Industrial Park East Lake High-Tech Development Zone Wuhan, Hubei 430074, CN
发明人:
GUO, Shuai; CN
WANG, Jiawen; CN
DING, Taotao; CN
XING, Ruiyuan; CN
WANG, Xiaojin; CN
WANG, Jiayou; CN
LI, Chunlong; CN
代理人:
NTD UNIVATION INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY LTD.; 10th Floor, Tower C, Beijing Global Trade Center 36 North Third Ring Road East, Dongcheng District Beijing 100013, CN
优先权数据:
201710681131.410.08.2017CN
标题 (EN) WAFER BONDING METHOD AND STRUCTURE THEREOF
(FR) PROCÉDÉ DE LIAISON DE TRANCHE ET STRUCTURE ASSOCIÉE
摘要:
(EN) Embodiments of wafer bonding method and structures thereof are disclosed. The wafer bonding method can include performing a plasma activation treatment on a front surface of a first and a front surface of a second wafer; performing a silica sol treatment on the front surfaces of the first and the second wafers; performing a preliminary bonding process of the first and second wafer; and performing a heat treatment of the first and the second wafers to bond the front surface of the first wafer to the front surface of the second wafers.
(FR) L'invention concerne des modes de réalisation d'un procédé de liaison de tranches et des structures de celles-ci. Le procédé de liaison de tranche peut comprendre la réalisation d'un traitement d'activation de plasma sur une surface avant d'une première et d'une surface avant d'une seconde tranche; la réalisation d'un traitement de sol de silice sur les surfaces avant des première et seconde tranches; la réalisation d'un processus de liaison préliminaire de la première et de la seconde tranche; et la réalisation d'un traitement thermique des première et seconde tranches pour lier la surface avant de la première tranche à la surface avant des secondes tranches.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)