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1. (WO2019026606) IMAGING DEVICE
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公布号: WO/2019/026606 国际申请号: PCT/JP2018/026711
公布日: 07.02.2019 国际申请日: 17.07.2018
国际专利分类:
H04N 5/369 (2011.01) ,G01S 7/481 (2006.01) ,G01S 17/89 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01) ,H01L 31/10 (2006.01)
H ELECTRICITY
04
ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
N
PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
5
Details of television systems
30
Transforming light or analogous information into electric information
335
using solid-state image sensors [SSIS]
369
SSIS architecture; Circuitry associated therewith
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
S
无线电定向;无线电导航;采用无线电波测距或测速;采用无线电波的反射或再辐射的定位或存在检测;采用其他波的类似装置
7
与G01S 13/00,G01S 15/00,G01S 17/00各组相关的系统的零部件
48
与G01S 17/00组相应的系统的
481
结构特征,例如光学元件的布置
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
S
无线电定向;无线电导航;采用无线电波测距或测速;采用无线电波的反射或再辐射的定位或存在检测;采用其他波的类似装置
17
应用除无线电波外的电磁波的反射或再辐射系统,例如,激光雷达系统
88
专门适用于特定应用的激光雷达系统
89
用于绘地图或成像
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
27
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
14
包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
144
由辐射控制的器件
146
图像结构
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
31
对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或设备;其零部件
08
其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
10
特点在于至少有一个电位跃变势垒或表面势垒的,例如光敏晶体管
申请人:
スタンレー電気株式会社 STANLEY ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 東京都目黒区中目黒2丁目9番13号 2-9-13, Nakameguro, Meguro-ku, Tokyo 1538636, JP
发明人:
中澤 克紀 NAKAZAWA, Katsunori; JP
後藤 浩成 GOTO, Hiroshige; JP
代理人:
特許業務法人創成国際特許事務所 SATO & ASSOCIATES; 東京都新宿区西新宿6-24-1 西新宿三井ビルディング 18階 Nishi-Shinjuku Mitsui Building 18F, 24-1, Nishi-Shinjuku 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
优先权数据:
2017-14940201.08.2017JP
标题 (EN) IMAGING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE
(JA) 撮像装置
摘要:
(EN) An imaging element 400 comprises a p-epi 112, a surface-side n-type semiconductor region 117 separated from an adjacent PD by a channel stopper 115, and a surface-side p+ region 123. Voltages different from each other are applied to the channel stopper 115 or the p+ region 123 and the p-epi 112. The voltages generate an accelerating electric field that accelerates electrons generated in the p-epi 112 by a photoelectric effect to the n-type semiconductor region 11.
(FR) L'invention concerne un élément d'imagerie (400) comprenant une épitaxie P- (112), une région en semi-conducteur de type N (117) côté surface séparée d'un PD adjacent par un dispositif d'arrêt de canal (115), et une région P+ (123) côté surface. Des tensions mutuellement différentes sont appliquées au dispositif d'arrêt de canal (115) ou à la région P+ (123) et à l'épitaxie P- (112). Les tensions génèrent un champ électrique d'accélération qui accélère les électrons générés dans l'épitaxie P- (112) par un effet photoélectrique sur la région en semi-conducteur de type N (117).
(JA) 撮像素子400は、p-epi112と、チャンネルストッパ115により隣接のPDから分離された表面側のn型半導体領域117と、さらに表面側のp+領域123とを有する。チャンネルストッパ115又はp+領域123とp-epi112とに相互に異なる電圧が印加される。該電圧は、光電効果によりp-epi112に生成される電子をn型半導体領域11に加速する加速電界を生成する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)