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1. (WO2019008738) FIELD EMISSION-TYPE ELECTRON SOURCE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
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公布号: WO/2019/008738 国际申请号: PCT/JP2017/024942
公布日: 10.01.2019 国际申请日: 07.07.2017
国际专利分类:
H01J 37/073 (2006.01) ,H01J 1/304 (2006.01) ,H01J 1/46 (2006.01) ,H01J 9/02 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
37
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
02
零部件
04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置,如电子光学装置,离子光学装置
06
电子源;电子枪
073
应用场致发射、光电发射或二次电子发射源的电子枪
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
1
电极的、磁控装置的、屏的零部件及其设置或间隔,通用于两种以上基本类型的放电管或灯的零部件
02
主电极
30
冷阴极
304
场致发射阴极
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
1
电极的、磁控装置的、屏的零部件及其设置或间隔,通用于两种以上基本类型的放电管或灯的零部件
46
控制电极,如栅极;辅助电极
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
9
专用于制造放电管、放电灯及其部件的设备和方法专用于制造放电管、放电灯及其部件的设备和方法(;从放电管或灯回收材料
02
电极或电极系统的制造
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
37
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
02
零部件
04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置,如电子光学装置,离子光学装置
06
电子源;电子枪
申请人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
发明人:
武居 亜紀 TAKEI Aki; JP
片桐 創一 KATAGIRI Souichi; JP
松永 宗一郎 MATSUNAGA Soichiro; JP
川野 源 KAWANO Hajime; JP
土肥 隆 DOI Takashi; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
优先权数据:
标题 (EN) FIELD EMISSION-TYPE ELECTRON SOURCE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) SOURCE D'ÉLECTRONS DU TYPE À ÉMISSION DE CHAMP ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 電界放出型電子源および荷電粒子線装置
摘要:
(EN) Provided are: a field emission-type electron source with which the influence of an electric field can be suppressed and stable long-term emission characteristics can be obtained even when a diffusion supply source is disposed close to the tip of a needle-like electrode; and a charged particle beam device using the same. According to the present invention, a suppressor electrode 4 is disposed to cover a filament 3 and the needle-like electrode 1 excluding a portion, of the needle-like electrode 1, protruding from an opening part 5 of the suppressor electrode 4, and a diffusion supply source 9 for supplying zirconia that is diffused onto the surface of the needle-like electrode 1 is formed around the needle-like electrode 1, wherein the diffusion supply source 9 has a thickness of 10 μm or more in at least the portion covered by the suppressor electrode 4, and has a thickness of 100 nm or more in the portion protruding from the opening part 5.
(FR) L'invention concerne : une source d'électrons du type à émission de champ avec laquelle l'influence d'un champ électrique peut être supprimée et des caractéristiques d'émission à long terme stables peuvent être obtenues même lorsqu'une source d'alimentation en diffusion est disposée à proximité de la pointe d'une électrode du type aiguille ; et un dispositif à faisceau de particules chargées l'utilisant. Selon la présente invention, une électrode de suppression (4) est disposée pour recouvrir un filament (3) et l'électrode du type aiguille (1) à l'exclusion d'une partie, de l'électrode du type aiguille (1), faisant saillie à partir d'une partie d'ouverture (5) de l'électrode de suppression (4), et une source d'alimentation en diffusion (9) permettant de fournir de la zircone qui est diffusée sur la surface de l'électrode du type aiguille (1) est formée autour de l'électrode du type aiguille (1), la source d'alimentation en diffusion (9) présentant une épaisseur de 10 µm ou plus dans au moins la partie recouverte par l'électrode de suppression (4) et présente une épaisseur de 100 nm ou plus dans la partie faisant saillie à partir de la partie d'ouverture (5).
(JA) 拡散供給源を針状電極の先端により近くに配置しても電場の影響の影響を抑え、安定した長期エミッション特性が得られる電界放出型電子源およびそれを用いた荷電粒子線装置を提供する。サプレッサ電極4の開口部5より突き出した針状電極1の部分を除いて、フィラメント3及び針状電極1を覆うようにサプレッサ電極4が配置され、針状電極1の周りには、その表面に拡散されるジルコニアを供給する拡散供給源9が形成されており、拡散供給源9は、少なくともサプレッサ電極4に覆われた部分においては10μm以上の厚さを有し、開口部5より突き出した部分においては100nm以上の厚さを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)