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1. (WO2019005542) IMAGE IMPROVEMENT FOR ALIGNMENT THROUGH INCOHERENT ILLUMINATION BLENDING
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公布号: WO/2019/005542 国际申请号: PCT/US2018/038327
公布日: 03.01.2019 国际申请日: 19.06.2018
国际专利分类:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
9
图纹面的照相制版工艺
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
027
未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
申请人:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
发明人:
COSKUN, Tamer; US
JEONG, Hwan J.; US
代理人:
PATTERSON, B. Todd; US
VERSTEEG, Steven H.; US
优先权数据:
62/525,02126.06.2017US
标题 (EN) IMAGE IMPROVEMENT FOR ALIGNMENT THROUGH INCOHERENT ILLUMINATION BLENDING
(FR) AMÉLIORATION D'IMAGE POUR L'ALIGNEMENT PAR MÉLANGE D'ÉCLAIRAGES INCOHÉRENTS
摘要:
(EN) Methods and apparatuses are provided that determine an offset between actual feature/mark locations and the designed feature/mark locations in a maskless lithography system. For example, in one embodiment, a method is provided that includes opening a camera shutter in a maskless lithography system. Light is directed from a configuration of non-adjacent mirrors in a mirror array towards a first substrate layer. An image of the first substrate layer on a camera is captured and accumulated. Light is directed and images are captured repeatedly using different configurations of non-adjacent mirrors to cover an entire field-of-view (FOV) of the camera on the first substrate layer. Thereafter, the camera shutter is closed and the accumulated image is stored in memory.
(FR) L'invention concerne des procédés et des appareils qui déterminent un décalage entre des emplacements de caractéristiques/repères réels et les emplacements de caractéristiques/repères prédéfinis dans un système de lithographie sans masque. Par exemple, un mode de réalisation concerne un procédé qui comprend l'étape consistant à ouvrir l'obturateur d'une caméra dans un système de lithographie sans masque. Une lumière provenant d'une configuration de miroirs non adjacents d'un réseau de miroirs est dirigée sur une première couche de substrat. Une image de la première couche de substrat est capturée et accumulée sur une caméra. La lumière est dirigée et des images sont capturées de manière répétée à l'aide de différentes configurations de miroirs non adjacents afin de couvrir un champ de vision (FOV) complet de la caméra sur la première couche de substrat. L'obturateur de la caméra est ensuite refermé et l'image accumulée est enregistrée en mémoire.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)