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1. (WO2018221275) RETARDATION FILM AND PRODUCTION METHOD
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公布号: WO/2018/221275 国际申请号: PCT/JP2018/019348
公布日: 06.12.2018 国际申请日: 18.05.2018
国际专利分类:
G02B 5/30 (2006.01) ,B29C 47/14 (2006.01) ,B29C 55/02 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,C08L 53/02 (2006.01)
G PHYSICS
02
光学
B
光学元件、系统或仪器
5
除透镜外的光学元件
30
偏振元件
B 作业;运输
29
成型塑料
C
塑料的成型或连接;塑性状态物质的一般成型;已成型产品的后处理,例如修整
47
挤出成型,即挤出成型材料通过模子或喷嘴,模子或喷嘴给出要求的形状;所用的设备
08
零件、部件或附件;辅助操作
12
挤出喷嘴或模口
14
有宽口的,如用于板材
B 作业;运输
29
成型塑料
C
塑料的成型或连接;塑性状态物质的一般成型;已成型产品的后处理,例如修整
55
用拉伸成型,如通过模子拉延;所用的设备
02
板材或片材的
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
J
加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理(塑料的加工,如成型入B29)
5
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
18
薄膜或片材的制造
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
L
高分子化合物的组合物
53
Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
02
乙烯基芳族单体与共轭二烯的
申请人:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246, JP
发明人:
浅田 毅 ASADA, Takeshi; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
优先权数据:
2017-10859131.05.2017JP
标题 (EN) RETARDATION FILM AND PRODUCTION METHOD
(FR) FILM DE DÉPHASAGE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 位相差フィルム及び製造方法
摘要:
(EN) A retardation film and a production method therefor, said retardation film: substantially comprising only one type of copolymer P including a polymerization unit A and a polymerization unit B; having a phase-separated structure exhibiting structural birefringence; and having an NZ coefficient greater than 0 and less than 1. Ideally: the phase-separated structure includes a phase having the polymerization unit A as the main component thereof and a phase having the polymerization unit B as the main component thereof; the phase-separated structure has a lamellar, cylindrical, or spheroid form; and the inter-phase distance in the phase-separated structure is no more than 200 nm.
(FR) L’invention concerne un film de déphasage et un procédé de fabrication de celui-ci. Ce film de déphasage est constitué en pratique uniquement d’une sorte de copolymère (P) contenant une unité polymère (A) et une unité polymère (B), et possède une structure de séparation de phases exprimant une biréfringence structurale. Le film de déphasage présente un coefficient NZ supérieur à 0 et inférieur à 1. De préférence, ladite structure de séparation de phases contient une phase ayant pour composant principal ladite unité polymère (A), et une phase ayant pour composant principal ladite unité polymère (B), ladite structure de séparation de phases présente la forme d’une lamelle, d’un cylindre ou d’un sphéroïde, et la distance interphase dans ladite structure de séparation de phases est inférieure ou égale à 200nm.
(JA) 重合単位Aと重合単位Bとを含む1種の共重合体Pのみから実質的になり、構造性複屈折を発現する相分離構造を有し、0より大きく、且つ1より小さいNZ係数を有する、位相差フィルム;並びにその製造方法。好ましくは、前記相分離構造が、前記重合単位Aを主成分とする相と、前記重合単位Bを主成分とする相とを含み、前記相分離構造が、ラメラ、シリンダ、スフェロイドのいずれかの形態を有し、前記相分離構造における相間距離が200nm以下である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)