此应用程序的某些内容目前无法使用。
如果这种情况持续存在,请联系我们反馈与联系
1. (WO2018190090) CLEANING WATER SUPPLY DEVICE
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2018/190090 国际申请号: PCT/JP2018/011101
公布日: 18.10.2018 国际申请日: 20.03.2018
国际专利分类:
H01L 21/304 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
18
器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
30
用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
302
改变半导体材料的表面物理特性或形状的,例如腐蚀、抛光、切割
304
机械处理,例如研磨、抛光、切割
申请人:
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
发明人:
森田 博志 MORITA, Hiroshi; JP
顔 暢子 GAN, Nobuko; JP
代理人:
重野 剛 SHIGENO, Tsuyoshi; JP
重野 隆之 SHIGENO, Takayuki; JP
优先权数据:
2017-08062714.04.2017JP
标题 (EN) CLEANING WATER SUPPLY DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ALIMENTATION EN EAU DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄水供給装置
摘要:
(EN) This cleaning water supply device is provided with: an ultrapure water line 1 through which a fixed amount of ultrapure water flows; a production unit 2 which adds a fixed amount of a solute into the ultrapure water line to produce a cleaning water; a storage tank 4 for the cleaning water; cleaning machines 5A-5N to which the cleaning water is supplied from the storage tank 4; and a controller 2a which controls the cleaning water production unit 2 such that the water level in the storage tank 4 is in a prescribed range.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'alimentation en eau de nettoyage pourvu : d'une conduite d'eau ultra-pure 1 à travers laquelle s'écoule une quantité fixe d'eau ultra-pure ; d'une unité de production 2 qui ajoute une quantité fixe d'un soluté dans la conduite d'eau ultra-pure pour produire une eau de nettoyage ; d'un réservoir de stockage 4 de l'eau de nettoyage ; de machines de nettoyage 5A-5N auxquelles l'eau de nettoyage est fournie depuis le réservoir de stockage 4 ; et d'un dispositif de régulation 2a qui régule l'unité de production d'eau de nettoyage 2 de sorte que le niveau d'eau dans le réservoir de stockage 4 s'inscrive dans une plage prescrite.
(JA) 洗浄水供給装置は、超純水が定量にて流れる超純水ライン1と、該超純水ラインに溶質を定量添加して洗浄水を製造する製造部2と、洗浄水の貯留槽4と、貯留槽4から洗浄水が供給される洗浄機5A~5Nと、貯留槽4内の水位が所定範囲となるように洗浄水製造部2を制御する制御器2aとを有する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)