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1. (WO2018189906) PRODUCTION METHOD AND PRODUCTION DEVICE FOR ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
国际局存档的最新著录项目数据

公布号: WO/2018/189906 国际申请号: PCT/JP2017/015381
公布日: 18.10.2018 国际申请日: 14.04.2017
国际专利分类:
H05B 33/10 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
10
专门适用于制造电致发光光源的设备或方法
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
22
以镀覆工艺为特征的
24
真空蒸发
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
27
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
28
包括使用有机材料作为有源部分,或使用有机材料与其他材料的组合作为有源部分的组件
32
具有专门适用于光发射的组件,例如使用有机发光二极管的平板显示器
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
51
使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
50
专门适用于光发射的,如有机发光二极管 (OLED)或聚合物发光器件(PLED)
申请人:
堺ディスプレイプロダクト株式会社 SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522, JP
发明人:
岸本 克彦 KISHIMOTO, Katsuhiko; JP
代理人:
特許業務法人朝日奈特許事務所 ASAHINA & CO.; 大阪府大阪市中央区谷町二丁目2番22号 NSビル NS Building, 2-22, Tanimachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400012, JP
优先权数据:
标题 (EN) PRODUCTION METHOD AND PRODUCTION DEVICE FOR ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET DISPOSITIF DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 有機EL表示装置の製造方法及び製造装置
摘要:
(EN) According to one embodiment, the production method for an organic EL display device involves performing a reforming treatment on a vapor deposition mask at a surface thereof that faces a vapor deposition source (S2), mounting a support substrate on one surface of the vapor deposition mask (S3), spattering a desired organic material at the vapor deposition mask so as to form an organic layer that comprises a plurality of layers at a desired location on the support substrate (S4), and forming a second electrode on the organic layer (S8). Before the formation of the organic layer that comprises a plurality of layers, before or after the formation of each of the layers of the organic layer that comprises a plurality of layers, and/or before the formation of the second electrode, an exposed surface of the vapor deposition mask or an exposed surface of the organic layer that has been formed on the vapor deposition mask is reformed.
(FR) Selon un mode de réalisation, le procédé de production d'un dispositif d'affichage électroluminescent organique consiste à réaliser un traitement de reformage sur un masque de dépôt en phase vapeur au niveau d'une surface de celui-ci qui fait face à une source de dépôt en phase vapeur (S2), à monter un substrat de support sur une surface du masque de dépôt en phase vapeur (S3), à projeter un matériau organique souhaité au niveau du masque de dépôt en phase vapeur de manière à former une couche organique qui comprend une pluralité de couches à un emplacement souhaité sur le substrat de support (S4), et à former une seconde électrode sur la couche organique (S8). Avant la formation de la couche organique qui comprend une pluralité de couches, avant ou après la formation de chacune des couches de la couche organique qui comprend une pluralité de couches, et/ou avant la formation de la seconde électrode, une surface exposée du masque de dépôt en phase vapeur ou une surface exposée de la couche organique qui a été formée sur le masque de dépôt en phase vapeur est reformée.
(JA) 一実施形態の有機EL表示装置の製造方法は、蒸着源と対向する面に改質処理が施された(S2)蒸着マスクの一面に支持基板が装着され(S3)、蒸着マスクに向かって所望の有機材料を飛散させることで支持基板の所望の場所に複数層からなる有機層が積層され(S4)、有機層の上に第2電極が形成される(S8)。そして、複数層からなる有機層の積層の前、複数層からなる有機層の各有機層の積層の前又は後、及び前記第2電極の形成の前の少なくとも1つのタイミングで、蒸着マスクの露出面又は蒸着マスクに形成された有機層の露出面が改質される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)