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1. (WO2018180850) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
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公布号: WO/2018/180850 国际申请号: PCT/JP2018/011312
公布日: 04.10.2018 国际申请日: 22.03.2018
国际专利分类:
G02F 1/1337 (2006.01)
G PHYSICS
02
光学
F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
1
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
1333
构造上的设备
1337
液晶分子的表面诱导取向,例如借助列向层
申请人:
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
发明人:
後藤 麻里奈 GOTO Marina; JP
井ノ上 雄一 INOUE Yuichi; JP
代理人:
小川 眞治 OGAWA Shinji; JP
优先权数据:
2017-06764530.03.2017JP
标题 (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示素子の製造方法
摘要:
(EN) Provided is a method for manufacturing a liquid crystal display element, which comprises one to n separate and independent light irradiation steps for irradiating a liquid crystal composition containing a polymerizable compound affixed onto a substrate with light having a peak at 300-400 nm, and is characterized in that, when the concentration change amount Vk per unit minute of the concentration difference between the concentration (Ck) of the polymerizable compound after the liquid crystal composition containing 0.3 mass% of the polymerizable compound has been irradiated with light for five minutes under the light irradiation condition of a k-th light irradiation step (Sk) among the one to n light irradiation steps, and 0.3 mass% is represented by expression (1) in each of the steps, the average reaction velocity Vave of the polymerizable compound in all light irradiation steps (ΣSk) represented by expression (2) is controlled to 0.030-0.048 (mass%/min).
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément d'affichage à cristaux liquides, qui comprend une à n étapes d'irradiation de lumière séparées et indépendantes permettant d'irradier une composition de cristaux liquides contenant un composé polymérisable apposée sur un substrat avec une lumière ayant un pic à 300-400 nm, et qui est caractérisé en ce que, lorsque la quantité de changement de concentration Vk par unité minute de la différence de concentration entre la concentration (Ck) du composé polymérisable après que la composition de cristaux liquides contenant 0,3 % en masse du composé polymérisable a été irradiée avec de la lumière pendant cinq minutes dans la condition d'irradiation de lumière d'une k-ième étape d'irradiation de lumière (Sk) parmi les une à n étapes d'irradiation de lumière, et 0,3 % en masse est représentée par l'expression (1) dans chacune des étapes, la vitesse de réaction moyenne Vave du composé polymérisable dans toutes les étapes d'irradiation de lumière (ΣSk) représentée par l'expression (2) est régulée à 0,030-0,048 (% en masse/min).
(JA) 基板上に添着された重合性化合物を含有する液晶組成物に300~400nmにピークを有する光を照射する光照射工程を別個独立する1~n回備えた液晶表示素子の製造方法であって、 前記の1~n回の光照射工程のうちk回目の光照射工程(S)の光照射条件下で前記重合性化合物を0.3質量%含有する液晶組成物に対して5分間光を照射した後の前記重合性化合物の濃度(C)と、0.3質量%との濃度差の単位分あたりの濃度変化量Vが、式(1)で工程毎に表される場合、式(2)で表される全光照射工程(ΣSk)における前記重合性化合物の平均反応速度Vaveを0.030~0.048(質量%/分)に制御することを特徴とする、液晶表示素子の製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)