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1. (WO2018179641) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2018/179641 国际申请号: PCT/JP2017/046479
公布日: 04.10.2018 国际申请日: 25.12.2017
国际专利分类:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 12/08 (2006.01) ,C08F 20/16 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
039
可光降解的高分子化合物,例如,正电子抗蚀剂
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
12
具有1个或更多的不饱和脂族基团化合物的均聚物或共聚物,每个不饱和脂族基团只有1个碳-碳双键,并且至少有1个是以芳香族碳环为终端
02
仅含1个不饱和脂族基的单体
04
含1个环
06
08
苯乙烯
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
20
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物,每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键,并且只有1个是以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端
02
具有少于10个碳原子的一元羧酸;它的衍生物
10
12
一元醇或酚的
16
含有两个或更多碳原子的酚或醇的
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
04
铬酸盐类
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
申请人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
发明人:
藤本 進二 FUJIMOTO, Shinji; JP
松田 知樹 MATSUDA, Tomoki; JP
山田 悟 YAMADA, Satoru; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
优先权数据:
2017-06804330.03.2017JP
标题 (EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT
(JA) 感光性転写材料、及び回路配線の製造方法
摘要:
(EN) Disclosed is a photosensitive transferring material comprising: a temporary support; and a photosensitive resin composition layer including a photoacid generator, and a polymer component including a polymer that includes a constituent unit (a-1) including a group wherein a carboxy group is protected in the form of an acetal, or a constituent unit (a-2) including a group in which a phenolic hydroxyl group is protected in the form of an acetal. The polymer component includes a constituent unit (b-1) including a phenolic hydroxyl group and/or a constituent unit (b-2) including an alcoholic hydroxyl group. The total percentage of the constituent unit (b-1) and the constituent unit (b-2) in all of the constituent units in the polymer component is from 1 mol% to 18 mol%. Also disclosed is a method for producing a circuit wiring using the photosensitive transferring material.
(FR) L'invention concerne un matériau de transfert photosensible comprenant : un support temporaire ; et une couche de composition de résine photosensible comprenant un générateur photoacide, et un composant polymère comprenant un polymère qui comprend une unité constitutive (a-1) comprenant un groupe dans lequel un groupe carboxy est protégé sous la forme d'un acétal, ou une unité constitutive (a-2) comprenant un groupe dans lequel un groupe hydroxyle phénolique est protégé sous la forme d'un acétal. Le composant polymère comprend une unité constitutive (b-1) comprenant un groupe hydroxyle phénolique et/ou une unité constitutive (b-2) comprenant un groupe hydroxyle alcoolique. Le pourcentage total de l'unité constitutive (b-1) et de l'unité constitutive (b-2) dans toutes les unités constitutives dans le composant polymère est de 1 % en moles à 18 % en moles. L'invention concerne également un procédé de production d'un câblage de circuit à l'aide du matériau de transfert photosensible.
(JA) 仮支持体;及び、カルボキシ基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-1)又はフェノール性水酸基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-2)を有する重合体を含む重合体成分と、光酸発生剤とを含有する感光性樹脂組成物層;を有し、重合体成分が、フェノール性水酸基を有する構成単位(b-1)及びアルコール性水酸基を有する構成単位(b-2)の少なくとも一方を有し、重合体成分の全構成単位に占める構成単位(b-1)の割合と構成単位(b-2)の割合との合計が1モル%以上18モル%以下である感光性転写材料、並びに、感光性転写材料を用いた回路配線の製造方法。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)