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1. (WO2018179495) APPARATUS FOR PRODUCING TREATED WATER
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公布号: WO/2018/179495 国际申请号: PCT/JP2017/032800
公布日: 04.10.2018 国际申请日: 12.09.2017
国际专利分类:
C02F 1/68 (2006.01) ,B01D 19/00 (2006.01) ,C02F 1/20 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
02
水、废水、污水或污泥的处理
F
水、废水、污水或污泥的处理
1
水、废水或污水的处理
68
添加特定的物质,如微量元素以改善饮用水质
B 作业;运输
01
一般的物理或化学的方法或装置
D
分离
19
液体的脱气
C 化学;冶金
02
水、废水、污水或污泥的处理
F
水、废水、污水或污泥的处理
1
水、废水或污水的处理
20
脱气法,即溶解气体的释放
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
18
器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
30
用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
302
改变半导体材料的表面物理特性或形状的,例如腐蚀、抛光、切割
304
机械处理,例如研磨、抛光、切割
申请人:
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
发明人:
正岡 融 MASAOKA, Tooru; JP
代理人:
重野 剛 SHIGENO, Tsuyoshi; JP
重野 隆之 SHIGENO, Takayuki; JP
优先权数据:
2017-06809230.03.2017JP
标题 (EN) APPARATUS FOR PRODUCING TREATED WATER
(FR) APPAREIL POUR PRODUIRE DE L'EAU TRAITÉE
(JA) 水質調整水製造装置
摘要:
(EN) An apparatus for producing treated water by adding a pH-adjusting agent and/or an ORP-adjusting agent to ultrapure water, provided with: a chemical solution tank 1 for storing a chemical solution comprising a pH-adjusting agent and/or an ORP-adjusting agent; a chemical injection piping 3 for chemical injection of the chemical solution in the chemical solution tank 1 into the ultrapure water; and a deaeration means 6 for deaerating the chemical solution injected into the ultrapure water. When producing treated water, which is useful as rinsing water, etc. for semiconductor wafers, by adding a pH-adjusting agent and/or an ORP-adjusting agent to ultrapure water, the present invention solves the problem of DO being introduced from the chemical solution and the problem of faulty chemical injection and faulty flow meter measurement due to foaming of the chemical solution, making it possible to produce treated water of low DO concentration and high water quality in a stable manner.
(FR) L'invention concerne un appareil pour produire de l'eau traitée par ajout d'un agent régulateur de pH et/ou d'un agent régulateur du potentiel d'oxydo-réduction (P.O.R) à de l'eau ultra-pure, comprenant : un réservoir de solution chimique 1 pour stocker une solution chimique comprenant un agent régulateur de pH et/ou un agent régulateur du P.O.R ; une tuyauterie d'injection chimique 3 pour l'injection chimique de la solution chimique, présente dans le réservoir de solution chimique 1, dans l'eau ultrapure ; et un moyen de désaération 6 pour désaérer la solution chimique injectée dans l'eau ultrapure. Lors de la production d'eau traitée, qui est utile comme eau de rinçage, etc. pour des tranches de semi-conducteur, en ajoutant un agent régulateur de pH et/ou un agent régulateur du P.O.R à de l'eau ultra-pure, la présente invention résout le problème lié à l'introduction d'oxygène dissous (O.D) à partir de la solution chimique et le problème lié à une injection chimique défectueuse et à une mesure de débitmètre défectueuse en raison du moussage de la solution chimique, ce qui permet de produire de l'eau traitée ayant une faible concentration d'O.D et une haute qualité d'eau d'une manière stable.
(JA) 超純水にpH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を添加して水質調整水を製造する装置であって、pH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を含む薬液を貯留する薬液タンク1と、該薬液タンク1内の薬液を超純水に薬注する薬注配管3と、該超純水に薬注される薬液を脱気処理する脱気手段6とを備える水質調整水製造装置。超純水にpH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を添加して、半導体ウェハの洗浄水等として有用な水質調整水を製造するに当たり、薬液からのDOの混入、薬液の発泡による薬注不良や流量計の計測不良といった問題を解決して、DO濃度の低い高水質の水質調整水を安定的に製造することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)