此应用程序的某些内容目前无法使用。
如果这种情况持续存在,请联系我们反馈与联系
1. (WO2018159241) DATA GENERATING METHOD, DATA GENERATING DEVICE, AND DATA GENERATING PROGRAM
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2018/159241 国际申请号: PCT/JP2018/004180
公布日: 07.09.2018 国际申请日: 07.02.2018
国际专利分类:
H01L 21/66 (2006.01) ,G06T 7/00 (2017.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
66
在制造或处理过程中的测试或测量
G PHYSICS
06
计算;推算;计数
T
一般的图像数据处理或产生
7
图像分析,例如从位像到非位像
申请人:
富士通株式会社 FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番1号 1-1, Kamikodanaka 4-chome, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2118588, JP
发明人:
梅田 裕平 UMEDA, Yuhei; JP
石田 勉 ISHIDA, Tsutomu; JP
代理人:
向山 直樹 MUKOUYAMA Naoki; JP
优先权数据:
2017-04032603.03.2017JP
标题 (EN) DATA GENERATING METHOD, DATA GENERATING DEVICE, AND DATA GENERATING PROGRAM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DONNÉES, DISPOSITIF DE PRODUCTION DE DONNÉES, ET PROGRAMME DE PRODUCTION DE DONNÉES
(JA) データ生成方法、データ生成装置及びデータ生成プログラム
摘要:
(EN) [Problem] To convert position information regarding a defective chip on a wafer into characteristic information suitable for categorizing. [Solution] This data generating method comprises a process for: generating, for each of a plurality of wafers, extended coordinates containing a position on the wafer and a value calculated from a distance from the center of the wafer and a contribution parameter for each defect on the wafer by using information about defect positions on the wafer; generating a Betti number sequence for each of the plurality of wafers via persistent homology processing on a plurality of generated extended coordinates; generating a defect pattern image for each of the plurality of wafers from a plurality of Betti number sequences generated with respect to the plurality of contribution parameter values; and generating machine learning data that associates the plurality of defect pattern images generated for the plurality of wafers with identifying information associated with the plurality of wafers.
(FR) Le problème abordé par la présente invention est de convertir des informations de position concernant une puce défectueuse sur une tranche en informations caractéristiques appropriées pour la catégorisation. La solution selon l'invention concerne un procédé de production de données qui comprend un processus pour : produire, pour chaque tranche d'une pluralité de tranches, des coordonnées étendues contenant une position sur la tranche et une valeur calculée à partir d'une distance à partir du centre de la tranche et un paramètre de contribution pour chaque défaut sur la tranche en utilisant des informations concernant des positions de défaut sur la tranche ; produire une séquence de nombres de Betti pour chaque tranche de la pluralité de tranches par un traitement à homologie persistante sur une pluralité de coordonnées étendues produites ; produire une image de motif de défaut pour chaque tranche de la pluralité de tranches à partir d'une pluralité de séquences de nombres de Betti produites par rapport à la pluralité de valeurs de paramètre de contribution ; et produire des données d'apprentissage automatique qui associent la pluralité d'images de motif de défaut produites pour la pluralité de tranches avec des informations d'identification associées à la pluralité de tranches.
(JA) 【課題】ウエハ上の欠陥チップの位置情報を、分類に適した特徴情報に変換する。 【解決手段】本データ生成方法は、複数のウエハそれぞれについて、当該ウエハの欠陥位置の情報を用いて、当該ウエハ上の欠陥ごとに、当該ウエハ上の位置、および、当該ウエハの中心からの距離と寄与パラメータとから算出される値を含む拡張座標を生成し、複数のウエハそれぞれについて、生成された複数の拡張座標に対するパーシステントホモロジ処理によりベッチ数系列を生成し、複数のウエハそれぞれについて、寄与パラメータの複数の値に対し生成した複数のベッチ数系列から、欠陥パターン画像を生成し、複数のウエハについて生成された複数の欠陥パターン画像と、複数のウエハに対応付けられた判別情報とを対応付けた機械学習データを生成する処理を含む。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)