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1. (WO2018146651) THERMAL MULTI-LAYER INSULATION AND RADIO-FREQUENCY ABSORBER BLANKET
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公布号: WO/2018/146651 国际申请号: PCT/IB2018/050858
公布日: 16.08.2018 国际申请日: 12.02.2018
国际专利分类:
H01Q 17/00 (2006.01) ,H01Q 15/00 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
Q
天线
17
吸收天线辐射波的装置;这种装置与有源天线单元或系统的组合
H 电学
01
基本电气元件
Q
天线
15
用于对天线辐射波进行反射、折射、绕射或极化的装置,例如准光学装置
申请人:
HPS - HIGH PERFORMANCE STRUCTURES, GESTÃO E ENGENHARIA LDA [PT/PT]; Rua Dr. Roberto Frias 400, Edificio INEGI 4200-465 Porto, PT
发明人:
SANTOS, Nuno, Miguel; PT
CORREIA PEREIRA, Celeste, Margarida; PT
SILVEIRA PEREIRA, Mário, Rui; PT
代理人:
SILVESTRE ALMEIDA FERREIRA, Luis, Humberto; PT
优先权数据:
10990610.02.2017PT
17156431.316.02.2017EP
标题 (EN) THERMAL MULTI-LAYER INSULATION AND RADIO-FREQUENCY ABSORBER BLANKET
(FR) ISOLATION MULTICOUCHE THERMIQUE ET COUVERTURE D'ABSORBEUR RADIOFRÉQUENCE
摘要:
(EN) Thermal multi-layer insulation (MLI) and radio-frequency (RF) absorber blanket comprising: an upper layer comprising a patterned frequency-selective structure (FSS) sheet tuned in function of the RF frequencies to be absorbed; one or more intermediate resistive layers for RF absorption; a lower RF ground layer. The upper layer may comprise a polymeric film, in particular a Kapton(tm), Mylar(tm) or Upilex(tm) film, and a patterned metallic coating in particular a vacuum deposited aluminium (VDA) coating. The upper layer may comprise a patterned polyimide film loaded with inorganic carbon, in particular Black Kapton(tm). Said patterned frequency-selective structure may be obtainable by metallic deposition and etching or cutting said pattern, in particular by laser etching or cutting. The patterned FSS sheet may have a pattern of unconnected square patches arranged in a grid.
(FR) L'invention concerne une isolation multicouche thermique (MLI) et une couverture d'absorbeur radiofréquence (RF) comprenant : une couche supérieure comprenant une feuille à structure sélective de fréquence à motifs (FSS) accordée en fonction des fréquences RF à absorber; une ou plusieurs couches résistives intermédiaires pour absorption RF; une couche inférieure de masse RF . La couche supérieure peut comprendre un film polymère, en particulier un film de Kapton (tm), Mylar (tm) ou Upilex (tm), et un revêtement métallique à motifs, en particulier un revêtement d'aluminium déposé sous vide (VDA). La couche supérieure peut comprendre un film de polyimide à motifs chargé de carbone inorganique, en particulier du Kapton noir (tm). Ladite structure sélective de fréquence à motifs peut être obtenue par dépôt métallique et gravure ou découpe dudit motif, en particulier par gravure ou découpe au laser. La feuille à FSS à motifs peut avoir un motif de pièces carrées non reliées disposées dans une grille.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)