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1. (WO2018123820) METHOD FOR FORMING PROTRUSION AND MACHINE
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公布号: WO/2018/123820 国际申请号: PCT/JP2017/045992
公布日: 05.07.2018 国际申请日: 21.12.2017
国际专利分类:
B23K 26/342 (2014.01) ,B23K 26/21 (2014.01)
[IPC code unknown for B23K 26/342][IPC code unknown for B23K 26/21]
申请人:
川崎重工業株式会社 KAWASAKI JUKOGYO KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 兵庫県神戸市中央区東川崎町3丁目1番1号 1-1, Higashikawasaki-cho 3-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6508670, JP
发明人:
行徳 裕也 GYOTOKU, Yuya; --
森橋 遼 MORIHASHI, Ryo; --
坂根 雄斗 SAKANE, Yuto; --
藤田 大河 FUJITA, Hiroka; --
小野 裕貴 ONO, Yuki; --
岩崎 勇人 IWASAKI, Hayato; --
代理人:
特許業務法人 有古特許事務所 PATENT CORPORATE BODY ARCO PATENT OFFICE; 兵庫県神戸市中央区東町123番地の1 貿易ビル3階 3rd Fl., Bo-eki Bldg., 123-1, Higashimachi, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500031, JP
优先权数据:
2016-25257027.12.2016JP
标题 (EN) METHOD FOR FORMING PROTRUSION AND MACHINE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE SAILLIE ET MACHINE
(JA) 突起形成方法および機械
摘要:
(EN) Provided is a method for forming a protrusion on the surface of a workpiece, the method comprising: a step for forming, by LMD, a first bank so as to surround a protrusion formation region on the surface of the workpiece; a step for forming, by LMD, an initial layer so as to cover the first bank on the protrusion formation region; a step for stacking at least one first raising layer on the initial layer by LMD; a step for forming a second bank along the periphery of the at least one first raising layer by LMD; a step for forming, by LMD, an intermediate base layer on the at least one raising layer so as to cover the second bank; and a step for stacking at least one second raising layer on the intermediate base layer by LMD.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation d'une saillie sur la surface d'une pièce à usiner, le procédé comprenant : une étape consistant à former, par LMD, une première ébauche de façon à entourer une région de formation de saillie sur la surface de la pièce à usiner ; une étape consistant à former, par LMD, une couche initiale de façon à recouvrir la première ébauche sur la région de formation de saillie ; une étape consistant à empiler au moins une première couche d'élévation sur la couche initiale par LMD ; une étape consistant à former une seconde ébauche le long de la périphérie de ladite au moins une première couche d'élévation par LMD ; une étape consistant à former, par LMD, une couche de base intermédiaire sur la ou les couches d'élévation de façon à recouvrir la seconde ébauche ; et une étape consistant à empiler au moins une seconde couche d'élévation sur la couche de base intermédiaire par LMD.
(JA) 突起形成方法は、ワークの表面に突起を形成する方法であって、LMDにより、ワークの表面上の突起形成領域を囲うように第1堤防を形成する工程と、LMDにより、突起形成領域上に、第1堤防を覆うように初層を形成する工程と、LMDにより、初層上に少なくとも1つの第1嵩上げ層を積層する工程と、LMDにより、少なくとも1つの第1嵩上げ層の周縁に沿って第2堤防を形成する工程と、LMDにより、少なくとも1つの嵩上げ層上に、第2堤防を覆うように中間ベース層を形成する工程と、LMDにより、中間ベース層上に少なくとも1つの第2嵩上げ層を積層する工程と、を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)