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1. (WO2018123626) NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PROTRUDING ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING ELECTRODE
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公布号: WO/2018/123626 国际申请号: PCT/JP2017/044987
公布日: 05.07.2018 国际申请日: 14.12.2017
国际专利分类:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/60 (2006.01) ,H05K 3/34 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
04
铬酸盐类
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
50
应用H01L 21/06至H01L 21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的
60
引线或其他导电构件的连接,用于工作时向或由器件传导电流
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
K
印刷电路;电设备的外壳或结构零部件;电气元件组件的制造
3
用于制造印刷电路的设备或方法
30
用电元件组装印刷电路的,例如用电阻
32
电元件或导线与印刷电路的电连接
34
通过焊接的
申请人:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008246, JP
发明人:
佐藤 信寛 SATO Nobuhiro; JP
阿部 信紀 ABE Nobunori; JP
代理人:
杉村 憲司 SUGIMURA Kenji; JP
优先权数据:
2016-25197526.12.2016JP
标题 (EN) NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PROTRUDING ELECTRODE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING ELECTRODE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE NÉGATIVE POUR ÉLECTRODE EN SAILLIE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE ÉLECTRODE EN SAILLIE
(JA) 突起電極用ネガ型レジスト組成物及び突起電極の製造方法
摘要:
(EN) The present invention provides a negative resist composition for a protruding electrode with a resist film having a light transmittance of 30% or less at a wavelength of 365 nm on producing a resist film with a thickness of 3.5 µm.
(FR) La présente invention concerne une composition de résine négative pour une électrode en saillie présentant un film de résine ayant une transmittance égale ou inférieure à 30 % à une longueur d'onde de 365 nm lors de la production d'un film de résine d’une épaisseur de 3,5 µm.
(JA) 厚さ3.5μmのレジスト膜を形成した場合に、波長365nmでの前記レジスト膜の光線透過率が30%以下である、突起電極用ネガ型レジスト組成物である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)