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1. (WO2018067687) PASSIVE DEVICE FOR VAPOR INTRUSION SAMPLING
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公布号: WO/2018/067687 国际申请号: PCT/US2017/055115
公布日: 12.04.2018 国际申请日: 04.10.2017
国际专利分类:
G01N 33/497 (2006.01) ,G01N 1/22 (2006.01) ,G01N 7/00 (2006.01) ,G01N 33/38 (2006.01)
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
33
利用不包括在G01N 1/00至G01N 31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
48
生物物质,例如血、尿;血球计数器
483
生物物质的物理分析
497
气态生物物质,例如呼出气体
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
1
取样;制备测试用的样品
02
取样装置
22
气体的
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
7
通过测量气体或蒸气的压力或体积分析材料
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
33
利用不包括在G01N 1/00至G01N 31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
38
混凝土;石灰;砂浆;石膏;砖;陶瓷;玻璃
申请人:
CH2M HILL, INC. [US/US]; 9191 South Jamaica Street Englewood, Colorado 80112, US
发明人:
THOMPSON, Ben; US
NOVAK, Michael; US
NIEMET, Michael; US
代理人:
KANABER, Kerith; US
HATTENBCH, Brad J.; US
CORNELIO, Gina; US
CAPPS, R. Shane; US
IGNAT, Brian J.; US
MORRISON, Angela L.; US
HAEN, Shannon Lynch; US
RASMUSSEN, Michael; US
JONSEN, Matthew D.; US
GILLELAND, Justin; US
优先权数据:
62/403,85704.10.2016US
标题 (EN) PASSIVE DEVICE FOR VAPOR INTRUSION SAMPLING
(FR) DISPOSITIF PASSIF PERMETTANT UN ÉCHANTILLONNAGE D'INTRUSION DE VAPEUR
摘要:
(EN) Disclosed herein is a passive vapor intrusion measurement device including a barrier layer having first and second major sides; an absorbent stack disposed on a first portion of the surface of the barrier layer first major side, the absorbent stack including a first absorbent layer, an optional second absorbent layer; and spacer layer(s) disposed between the first and second (if present) absorbent layer and the barrier layer; and an adhesive disposed on a second portion of the surface of the barrier layer first major side and transversely surrounding the absorbent stack. The device is applied to a substrate in need of vapor intrusion sampling. A method of vapor intrusion analysis includes individually collecting the first and second (if present) absorbent layers after a test period; analyzing the amount of an analyte the absorbent layer(s); and subtracting the amount of the analyte in the second absorbent layer (if present) from the amount of the analyte in the first absorbent layer.
(FR) La présente invention concerne un dispositif passif de mesure d'intrusion de vapeur comprenant une couche barrière ayant des premier et second côtés principaux ; un empilement absorbant disposé sur une première partie de la surface du premier côté principal de la couche barrière, l'empilement absorbant comprenant une première couche absorbante, une seconde couche absorbante facultative ; et une ou plusieurs couches d'espacement disposées entre les première et seconde couches absorbantes (si elles sont présentes) et la couche barrière ; et un adhésif disposé sur une seconde partie de la surface du premier côté principal de la couche barrière et entourant transversalement l'empilement absorbant. Le dispositif est appliqué à un substrat ayant besoin d'un échantillonnage d'intrusion de vapeur. Un procédé d'analyse d'intrusion de vapeur consiste à collecter individuellement les première et seconde couches absorbantes (si elles sont présentes) après une période de test ; à analyser la quantité d'un analyte dans la ou les couches absorbantes ; et à soustraire la quantité d'analyte dans la seconde couche absorbante (si elle est présente) de la quantité d'analyte dans la première couche absorbante.
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)