此应用程序的某些内容目前无法使用。
如果这种情况持续存在,请联系我们反馈与联系
1. (WO2018038427) FAR-FIELD PLASMONIC LENS AND FAR-FIELD PLASMONIC LENS ASSEMBLY
国际局存档的最新著录项目数据    提交意见

公布号: WO/2018/038427 国际申请号: PCT/KR2017/008594
公布日: 01.03.2018 国际申请日: 09.08.2017
国际专利分类:
G02B 5/00 (2006.01) ,G01N 21/552 (2014.01) ,G02B 3/00 (2006.01)
G PHYSICS
02
光学
B
光学元件、系统或仪器
5
除透镜外的光学元件
[IPC code unknown for G01N 21/552]
G PHYSICS
02
光学
B
光学元件、系统或仪器
3
简单或复合透镜
申请人:
한국기초과학지원연구원 KOREA BASIC SCIENCE INSTITUTE [KR/KR]; 대전시 유성구 과학로 169-148 169-148, Gwahak-ro Yuseong-gu Daejeon 34133, KR
发明人:
김승현 KIM, Seung Hyun; KR
김건희 KIM, Geon Hee; KR
김이종 KIM, I Jong; KR
代理人:
신일균 SHIN, Ilkyun; KR
优先权数据:
10-2016-010666123.08.2016KR
标题 (EN) FAR-FIELD PLASMONIC LENS AND FAR-FIELD PLASMONIC LENS ASSEMBLY
(FR) LENTILLE PLASMONIQUE DE CHAMP LOINTAIN ET ENSEMBLE DE LENTILLES PLASMONIQUES DE CHAMP LOINTAIN
(KO) 원거리장 플라즈모닉 렌즈 및 원거리장 플라즈모닉 렌즈 조립체
摘要:
(EN) A far-field plasmonic lens according to the present invention comprises: a base substrate having a positive dielectric constant; and a nano structure array having a negative dielectric constant, and having a predetermined cross-sectional area and extending in a lengthwise direction at the upper part of the base substrate, wherein the nano structure array comprises a first nano structure formed at a central position, and a plurality of second nano structures arranged at intervals around the first nano structure.
(FR) Une lentille plasmonique à champ lointain selon la présente invention comprend : un substrat de base ayant une constante diélectrique positive; et un réseau de nanostructures ayant une constante diélectrique négative, et ayant une section transversale prédéterminée et s'étendant dans une direction longitudinale au niveau de la partie supérieure du substrat de base, le réseau de nanostructures comprenant une première nanostructure formée au niveau d'une position centrale, et une pluralité de secondes nanostructures agencées à des intervalles autour de la première nanostructure.
(KO) 본 발명에 따른 원거리장(far-field) 플라즈모닉 렌즈는 양의 유전율을 가지는 베이스 기판; 및 음의 유전율을 가지며, 상기 베이스 기판의 상부에 일정 단면적을 가지고 길이 방향으로 연장되어 형성되는 나노 구조체 어레이;를 포함하되, 상기 나노 구조체 어레이는 중심 위치에 형성되는 제1 나노 구조체와, 상기 제1 나노 구조체를 중심으로 이격 배열된 복수의 제2 나노 구조체를 포함한다.
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 韩语 (KO)
申请语言: 韩语 (KO)