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1. (WO2017144277) SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
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公布号: WO/2017/144277 国际申请号: PCT/EP2017/052806
公布日: 31.08.2017 国际申请日: 09.02.2017
国际专利分类:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
677
用于传送的,例如在不同的工作站之间
申请人:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
发明人:
VERVOORDELDONK, Michael, Johannes; NL
LOF, Joeri; NL
代理人:
RAS, Michael; NL
优先权数据:
16157034.624.02.2016EP
标题 (EN) SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) SYSTÈME DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
摘要:
(EN) There is provided a substrate handling system (200) for handling a substrate (W), comprising a holder (202), a rotation device (206) and a mover (204). The holder is for holding the substrate. The rotation device is for rotating the holder around an axis (208) perpendicular to a plane. The mover is for moving the holder along a path in the plane relative to the axis. Further, there is provided a lithographic apparatus comprising the substrate handling system. The substrate handling system may comprise a coupling device (210) arranged to couple the holder to one of the mover and the rotation device in a first situation. The coupling device may be arranged to decouple the holder from the one of the mover and the rotation device in a second situation.
(FR) La présente invention concerne un système de manipulation de substrat (200) pour traiter un substrat (W), comprenant un support (202), un dispositif de rotation (206) et un moyen de déplacement (204). Le support est destiné à maintenir le substrat. Le dispositif de rotation est destiné à faire tourner le support autour d'un axe (208) perpendiculairement à un plan. Le moyen de déplacement est destiné à déplacer le support le long d'un chemin dans le plan par rapport à l'axe. En outre, il est prévu un appareil lithographique comprenant le système de manipulation de substrat. Le système de manipulation de substrat peut comprendre un dispositif de couplage (210) agencé pour coupler le support à l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une première situation. Le dispositif de couplage peut être agencé pour découper le support de l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une seconde situation.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)