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1. (WO2017094751) INSPECTION DEVICE
国际局存档的最新著录项目数据

公布号: WO/2017/094751 国际申请号: PCT/JP2016/085484
公布日: 08.06.2017 国际申请日: 30.11.2016
国际专利分类:
G01N 21/956 (2006.01)
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
21
利用光学手段,即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
84
专用于特殊应用的系统
88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
95
特征在于待测物品的材料或形状
956
检测物品表面上的图案
申请人:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
发明人:
米澤 良 YONEZAWA Makoto; JP
代理人:
坂田 ゆかり SAKATA Yukari; JP
优先权数据:
2015-23722604.12.2015JP
标题 (EN) INSPECTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION
(JA) 検査装置
摘要:
(EN) An inspection device in which a photomask is supported in the vertical direction, wherein the center-of-gravity position of the device can be lowered even when an anti-vibration stage is provided below a surface plate. A substantially cube-shaped recess 10b is formed at each of the four corners of the lower surface 10a of the surface plate 10. The bottom surfaces of the recesses 10b are supported by an anti-vibration stage 51, which is higher than the recess is deep.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'inspection dans lequel un photomasque est maintenu dans la direction verticale, la position du centre de gravité du dispositif pouvant être abaissée même lorsqu'une platine anti-vibrations est disposée sous une plaque de surface. Un évidement sensiblement en forme de cube (10b) est formé au niveau de chacun des quatre coins de la surface inférieure (10a) de la plaque de surface (10). Les surfaces inférieures des évidements (10b) sont maintenues par une platine anti-vibrations (51), qui est plus haute que l'évidement est profond.
(JA) 鉛直方向にフォトマスクを支持する検査装置において、定盤の下に除振台を設けつつも、装置の重心位置を低くすることができる。 定盤10の下面10aの四隅に、それぞれ略立方体形状の凹部10bが形成される。凹部10bの底面は、それぞれ凹部の深さより高さが高い除振台51により支持される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)
也发表为:
CN108351312KR1020180090992