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1. (WO2017002506) IMPRINT MATERIAL
国际局存档的最新著录项目数据

公布号: WO/2017/002506 国际申请号: PCT/JP2016/066010
公布日: 05.01.2017 国际申请日: 31.05.2016
国际专利分类:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 220/26 (2006.01) ,C08F 283/12 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
027
未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
B 作业;运输
29
成型塑料
C
塑料的成型或连接;塑性状态物质的一般成型;已成型产品的后处理,例如修整
59
表面成型,如压花;所用的设备
02
用机械方法,如压制
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
2
聚合工艺过程
44
在配料的存在下聚合,例如增塑剂、染料、填充剂
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
220
具有1个或更多不饱和脂族基化合物的共聚物,每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键,并且只有1个是仅以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端
02
具有少于10个碳原子的一元羧酸;它的衍生物
10
26
除羧基的氧外还含其他氧的酯
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
283
由单体接到C08G小类所包括的聚合物上聚合而得到的高分子化合物
12
接到聚硅氧烷上
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
290
由单体接到引入脂肪族不饱和端基或侧基而改性的聚合物上而得到的高分子化合物
02
接到引入不饱和端基而改性的聚合物上
06
包含在C08G小类中的聚合物
申请人:
日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
发明人:
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke; JP
鈴木 正睦 SUZUKI, Masayoshi; JP
代理人:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
优先权数据:
2015-12986129.06.2015JP
标题 (EN) IMPRINT MATERIAL
(FR) MATÉRIAU D'EMPREINTE
(JA) インプリント材料
摘要:
(EN) [Problem] To provide a novel imprint material. [Solution] An imprint material which contains the component (A), component (B), component (C) and component (D) described below. (A) a compound represented by formula (1) (B) a compound represented by formula (2) (C) a compound represented by formula (3) (D) a photopolymerization initiator (In the formulae, each R1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group; R2 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms, which may have a hydroxy group as a substituent; m represents 2 or 3; X represents a divalent linking group having an ethylene oxide unit and/or a propylene oxide unit; R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-3 carbon atoms; n represents 1 or 2; in cases where n is 1, R4 represents an alkyl group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent; and in cases where n is 2, R4 represents an alkylene group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent.)
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un nouveau matériau d'empreinte. La solution selon l'invention porte sur un matériau d'empreinte qui contient le constituant (A), le constituant (B), le constituant (C) et le constituant (D) décrits ci-après. (A) un composé représenté par la formule (1), (B) un composé représenté par la formule (2), (C) un composé représenté par la formule (3), (D) un initiateur de photopolymérisation, (dans les formules, chaque R1 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; R2 représente un groupe hydrocarboné comportant de 1 à 5 atomes de carbone, qui peut posséder un groupe hydroxy comme substituant ; m équivaut à 2 ou 3 ; X représente un groupe de liaison divalent comportant un motif oxyde d'éthylène et/ou un motif oxyde de propylène ; R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle comportant de 1 à 3 atomes de carbone ; n équivaut à 1 ou 2 ; dans les cas où n équivaut à 1, R4 représente un groupe alkyle comportant de 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant ; et dans les cas où n équivaut à 2, R4 représente un groupe alkylène comportant 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant).
(JA) 【課題】 新規なインプリント材料を提供すること。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含有するインプリント材料。 (A)下記式(1)で表される化合物 (B)下記式(2)で表される化合物 (C)下記式(3)で表される化合物 (D)光重合開始剤 (式中、Rはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Rは置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数1乃至5の炭化水素基を表し、mは2又は3を表し、Xはエチレンオキサイドユニット及び/又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、Rは水素原子又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表し、nは1又は2を表し、nが1を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキル基を表し、nが2を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキレン基を表す。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)
也发表为:
CN107710385KR1020180021725JPWO2017002506US20180180999