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1. (WO2006031455) LITHOGRAPHY TECHNIQUE USING SILICONE MOLDS
国际局存档的最新著录项目数据   

公布号: WO/2006/031455 国际申请号: PCT/US2005/031150
公布日: 23.03.2006 国际申请日: 31.08.2005
国际专利分类:
G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如,乙烯化合物
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
04
铬酸盐类
申请人:
BAHADUR, Maneesh [US/US]; US (UsOnly)
CHEN, Wei [US/US]; US (UsOnly)
ALBAUGH, John [US/US]; US (UsOnly)
HARKNESS, Brian [CA/US]; US (UsOnly)
TONGE, James [US/US]; US (UsOnly)
DOW CORNING CORPORATION [US/US]; 2200 West Salzburg Road Midland, MI 48686-0994, US (AllExceptUS)
发明人:
BAHADUR, Maneesh; US
CHEN, Wei; US
ALBAUGH, John; US
HARKNESS, Brian; US
TONGE, James; US
代理人:
MILCO, Larry, A.; Patent Department-Mail CO1232 2200 West Salzburg Road Midland, MI 48686-0994, US
优先权数据:
60/609,42513.09.2004US
标题 (EN) LITHOGRAPHY TECHNIQUE USING SILICONE MOLDS
(FR) TECHNIQUE DE LITHOGRAPHIE DANS LAQUELLE SONT UTILISES DES MOULES EN SILICONE
摘要:
(EN) A method includes the steps of: A) filling a silicone mold having a patterned surface with a curable (meth)acrylate formulation, B) curing the curable (meth)acrylate formulation to form a patterned feature, C) separating the silicone mold and the patterned feature, optionally D) etching the patterned feature, and optionally E) repeating steps A) to D) reusing the silicone mold. The curable (meth)acrylate formulation contains a fluorofunctional (meth)acrylate, a (meth)acrylate, and a photoinitiator.
(FR) L'invention concerne un procédé consistant : A) à remplir un moule de silicone possédant une surface à motif avec une préparation durcissable de (méth)acrylate ; B) à durcir la préparation durcissable de (méth)acrylate pour former une caractéristique à motif ; C) à séparer le moule de silicone et la caractéristique à motif ; D) à éventuellement graver la caractéristique à motif ; et E) à éventuellement répéter les étapes A) à D) en réutilisant le moule de silicone. La préparation durcissable de (méth)acrylate contient un (méth)acrylate fonctionnel à base de fluor, un (méth)acrylate, ainsi qu'un photoamorceur.
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)