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1. (WO2004019128) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
国际局存档的最新著录项目数据

公布号: WO/2004/019128 国际申请号: PCT/JP2003/010665
公布日: 04.03.2004 国际申请日: 22.08.2003
国际专利分类:
G02B 17/08 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
02
光学
B
光学元件、系统或仪器
17
有或无折射元件的具有反射面的系统
08
折反射系统
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
申请人:
NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
IKEZAWA, Hironori [JP/JP]; JP (UsOnly)
WILLIAMSON, David, M. [GB/GB]; GB (UsOnly)
发明人:
OMURA, Yasuhiro; JP
IKEZAWA, Hironori; JP
WILLIAMSON, David, M.; GB
代理人:
HASEGAWA, Yoshiki ; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg. 10-6, Ginza 1-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061, JP
优先权数据:
0311470.919.05.2003GB
2002-24292523.08.2002JP
标题 (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION ET PROCEDE ASSOCIE POUR LA PHOTOLITHOGRAPHIE, ET APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE ASSOCIE
摘要:
(EN) Optical Projection System and Method for Photolithography. A lithographic immersion projection system and method for projecting an image at high resolution over a wide field of view. The projection system and method include a final lens which decreases the marginal ray angle of the optical path before light passes into the immersion liquid to impinge on the image plane.
(FR) L'invention concerne un système optique de projection et un procédé associé pour la photolithographie. Elle concerne également un système de projection par immersion lithographique et un procédé de projection d'une image à haute résolution sur un grand champ de vision. Le système de projection comprend une lentille terminale qui réduit l'angle de rayon marginal du chemin optique avant que la lumière entre dans le liquide d'immersion pour venir frapper le plan d'image.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)
也发表为:
KR1020050035890EP1532489JP2005536775US20050248856US20080068573US20080068576
US20080068724US20080094696US20080049306US20080049336CN1668984AU2003256081