WIPO logo
手机版 | Deutsch | English | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | العربية |
PATENTSCOPE

检索国际和国家专利汇编
World Intellectual Property Organization
检索
 
浏览
 
翻译
 
选项
 
新闻
 
登录
 
帮助
 
机器翻译
1. (WO2001022469) ELECTRON-OPTICAL LENS ARRANGEMENT WITH AN AXIS THAT CAN BE LARGELY DISPLACED
国际局存档的最新著录项目数据   

Translation翻译: 原语言 --> 中文
公布号:    WO/2001/022469    国际申请号:    PCT/DE2000/002797
公布日: 29.03.2001 国际申请日: 16.08.2000
第2章国际初步审查要求书已提交:    30.01.2001    
国际专利分类:
H01J 37/30 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
申请人: CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBH [DE/DE]; Englerstrasse 28, 69126 Heidelberg (DE) (For All Designated States Except US).
ROSE, Harald [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHMID, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
JANZEN, Roland [DE/DE]; (DE) (For US Only)
发明人: ROSE, Harald; (DE).
SCHMID, Peter; (DE).
JANZEN, Roland; (DE)
代理人: PÖHNER, Wilfried; Röntgenring 4, Postfach 63 23, 97070 Würzburg (DE)
优先权数据:
199 44 857.4 18.09.1999 DE
标题 (DE) ELEKTRONENOPTISCHE LINSENANORDNUNG MIT WEIT VERSCHIEBBAR ACHSE
(EN) ELECTRON-OPTICAL LENS ARRANGEMENT WITH AN AXIS THAT CAN BE LARGELY DISPLACED
(FR) ENSEMBLE LENTILLE OPTOELECTRONIQUE A AXE FORTEMENT DECALABLE
摘要: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine elektronenoptische Linsenanordnung mit weit verschiebbarer Achse, insbesondere für die Elektronenlithographie, mit einer Zylinderlinse und einem Quadrupolfeld, dessen Symmetrieebene in der Mittelebene des Spaltes der Zylinderlinse verläuft, wobei die fokussierende Ebene des Quadrupols in Richtung des Spaltes ausgerichtet ist und die fokussierende Brechkraft der Zylinderlinse betragsmäßig doppelt so groß wie die des Quadrupols ist, wobei ein Ablenksystem für die geladenen Teilchen in der Ebene des Spaltes der Zylinderlinse vorgeschaltet ist und in Richtung des Spaltes der Zylinderlinse mehrere, ein Quadrupolfeld erzeugende Elektroden bzw. Polschuhe vorhanden sind, die individuell und vorzugsweise sukzessive erregbar sind und das Quadrupolfeld entsprechend der Ablenkung des Teilchenstrahles derart verschoben wird, daß der Teilchenstrahl im Bereich des Quadrupolfeldes auftrifft sowie eine Halterung für das Objekt vorhanden ist, die senkrecht zur optischen Achse und zur Richtung des Spaltes der Zylinderlinse verschiebbar ist.
(EN)The invention relates to an electron-optical lens arrangement with an axis that can be largely displaced, especially for electron lithography. The inventive arrangement comprises a cylinder lens and a quadrupole field. The plane of symmetry of said quadrupole field extends in the mid-plane of the gap pertaining to the cylinder lens. The focussing level of the quadrupole is oriented in the direction of the gap. The amount of the focussing refractive power belonging to the cylinder lens is twice as high as the amount of the quadrupole. A deflection system for the charged particles is connected upstream in the level of the gap pertaining to the cylinder lens and several electrodes or pole shoes which generate a quadrupole field are provided in the direction of the gap pertaining to the cylinder lens. Said electrodes or pole shoes can be individually and preferably successively excited and the quadrupole field can be displaced according to the deflection of the particle beam in such a way that the particle beam impinges upon the area of the quadrupole field. A holding device is provided for the object. Said device is arranged vertical in relation to the optical axis and can be displaced in relation to the direction of the gap pertaining to the cylinder lens.
(FR)L'invention concerne un ensemble lentille optoélectronique à axe fortement décalable, en particulier pour la lithographie par faisceau d'électrons, qui comporte une lentille cylindrique et un champ quadripolaire dont le plan de symétrie s'étend dans le plan central de la fente de la lentille cylindrique. Le plan de focalisation du quadripôle est orienté en direction de la fente et la réfringence de focalisation de la lentille cylindrique est deux fois plus grande que celle du quadripôle. Un système de déviation pour les particules chargées est monté en aval dans le plan de la fente de la lentille cylindrique et, en direction de ladite fente, sont montées plusieurs électrodes ou pièces polaires qui produisent un champ quadripolaire et peuvent être excitées individuellement et, de préférence, successivement. Le champ quadripolaire est décalé conformément à la déviation du faisceau de particules, de telle sorte que ledit faisceau de particules apparaît dans la zone du champ quadripolaire. L'ensemble selon l'invention comporte un support pour l'objet, support qui peut être décalé perpendiculairement à l'axe optique et à la direction de la fente de la lentille cylindrique.
指定国: JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
公布语言: German (DE)
申请语言: German (DE)