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1. (WO1999007367) ASYMMETRIC CONJUGATE ADDITION REACTION
国际局存档的最新著录项目数据   

公布号: WO/1999/007367 国际申请号: PCT/US1998/016251
公布日: 18.02.1999 国际申请日: 04.08.1998
第2章国际初步审查要求书已提交: 17.02.1999
国际专利分类:
C07D 405/04 (2006.01) ,C07D 405/06 (2006.01) ,C07D 413/14 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有机化学
D
杂环化合物(高分子化合物入C08)
405
杂环化合物,含有1个或多个以氧原子作为仅有的杂环原子的环,且含有1个或多个以氮原子作为仅有的杂环原子的环
02
含有两个杂环
04
被环原子-环原子的键直接连接的
C 化学;冶金
07
有机化学
D
杂环化合物(高分子化合物入C08)
405
杂环化合物,含有1个或多个以氧原子作为仅有的杂环原子的环,且含有1个或多个以氮原子作为仅有的杂环原子的环
02
含有两个杂环
06
被仅含脂族碳原子的碳链连接的
C 化学;冶金
07
有机化学
D
杂环化合物(高分子化合物入C08)
413
杂环化合物,含两个或更多个杂环,至少有1个环有氮原子和氧原子作为仅有的杂环原子
14
含有3个或更多个杂环
申请人:
DEVINE, Paul, N. [US/US]; US (UsOnly)
HEID, Richard, M., Jr. [US/US]; US (UsOnly)
TILLYER, Richard, D. [GB/US]; US (UsOnly)
TSCHAEN, David, M. [US/US]; US (UsOnly)
MERCK & CO., INC. [US/US]; 126 East Lincoln Avenue Rahway, NJ 07065, US (AllExceptUS)
发明人:
DEVINE, Paul, N.; US
HEID, Richard, M., Jr.; US
TILLYER, Richard, D.; US
TSCHAEN, David, M.; US
共同
代表:
MERCK & CO., INC.; 126 East Lincoln Avenue Rahway, NJ 07065, US
优先权数据:
60/055,25908.08.1997US
60/087,03928.05.1998US
9810550.515.05.1998GB
标题 (EN) ASYMMETRIC CONJUGATE ADDITION REACTION
(FR) REACTION D'ADDITION CONJUGUEE ASYMETRIQUE
摘要:
(EN) This invention relates to a key intermediate in the synthesis of an endothelin antagonist the synthesis of this key intermediate via an asymmetric conjugate addition reaction.
(FR) L'invention concerne un intermédiaire clé dans la synthèse d'un antagoniste d'endothéline, ainsi que la synthèse de cet intermédiaire clé par une réaction d'addition conjuguée asymétrique.
指定国: AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CN, CU, CZ, EE, GE, HR, HU, ID, IL, IS, JP, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LT, LV, MD, MG, MK, MN, MX, NO, NZ, PL, RO, RU, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, UA, US, UZ, VN, YU
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SZ, UG, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)