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1. (JP2004513240) 不動態化方法

专利局 : 日本
申请号: 2002541141 申请日: 07.11.2001
公布号: 2004513240 公布日: 30.04.2004
公布类型: A
国际专利分类:
C23C22/30
C23C22/46
C23C28/00
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
22
表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
05
使用水溶液的
06
使用pH<6之酸性水溶液的
24
含有六价络化合物的
30
还含有三价铬
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
22
表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
05
使用水溶液的
06
使用pH<6之酸性水溶液的
46
含有草酸盐的
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
28
用不包含在C23C 2/00至C23C 26/00各大组中单一组的方法,或用包含在C23C小类的方法与C25D小类中方法的组合以获得至少二层叠加层的镀覆
CPC:
C23C 22/53
C23C 22/46
C23C2222/10
申请人: ヴァルター ヒレブラント ゲーエムベーハー ウント コー. ガルヴァノテヒニーク
发明人: ヒレブラント, エルンスト ヴァルター
代理人: 山本 秀策
安村 高明
森下 夏樹
优先权数据: 100 55 215.3 07.11.2000 DE
标题: (JA) 不動態化方法
摘要:
(JA)

本発明は、弱い錯化剤、好ましくはジカルボン酸またはトリカルボン酸、好ましくはクロム(III)−シュウ酸塩錯体、およびCo2+を含むクロム(VI)非含有溶液により亜鉛、カドミウム、またはそれらの合金(特に、亜鉛−ニッケル合金)を不動態化する方法に関する。Co2+の濃度は、30g/lよりも高い。本発明は、小型化成層に照準を合わせた試行から方向転換し、多孔性化成層を生成することを試みることにより、この多孔性がすくなくとも1つのさらなる層に結合するために使用される場合に最終産物が改善されるという発見に基づく。


也发表为:
CZPV2003-1237SK5442003MXPA/a/2003/004019BRPI0115161EP1346081US20040011431
CN1478155CA2428138AU2002221819WO/2002/038829