Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019066087) VAPOR DEPOSITION DEVICE, DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюроОтправить комментарий

№ публикации: WO/2019/066087 № международной заявки: PCT/JP2018/037100
Дата публикации: 04.04.2019 Дата международной подачи: 03.10.2018
МПК:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
23
Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C
Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще
14
Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
22
характеризуемые способом покрытия
24
вакуумное испарение
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
23
Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C
Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще
14
Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
04
нанесение покрытия на выбранный участок поверхности, например с использованием масок
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
27
Приборы, состоящие из нескольких полупроводниковых или прочих компонентов на твердом теле, сформированных на одной общей подложке или внутри нее
28
содержащие компоненты с использованием органических материалов в качестве активной части или с использованием комбинации органических материалов с другими материалами в качестве активной части
32
с компонентами, специально предназначенными для излучения световых колебаний, например дисплеи с плоским экраном с использованием органических светоизлучающих диодов
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
51
Приборы на твердом теле с использованием органических материалов в качестве активной части или с использованием комбинации органических материалов с другими материалами в качестве активной части; способы или устройства, специально предназначенные для производства или обработки таких приборов или их частей
50
специально предназначенные для светового излучения, например органические светоизлучающие диоды (OLED) или полимерные светоизлучающие устройства (PLED)
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
05
Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
B
Электрический нагрев; устройства электрического освещения, не отнесенные к другим классам
33
Электролюминесцентные источники света
10
способы и устройства для изготовления электролюминесцентных источников света
Заявители:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
国立大学法人東北大学 TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 宮城県仙台市青葉区片平二丁目1番1号 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577, JP
Изобретатели:
水村 通伸 MIZUMURA Michinobu; JP
後藤 哲也 GOTO Tetsuya; JP
Агент:
特許業務法人 英知国際特許事務所 EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 東京都文京区千石4丁目45番13号 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011, JP
Дата приоритета:
2017-18437326.09.2017JP
Название (EN) VAPOR DEPOSITION DEVICE, DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PANNEAU ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 蒸着装置、有機ELパネルの製造装置、有機ELパネルの製造方法
Реферат:
(EN) Provided is a vapor deposition device enabling a vapor deposition source to be arranged in proximity to a vapor deposition mask or a substrate to improve directionality of a molecular flux of a film formation material, thereby increasing accuracy of a film formation pattern. The vapor deposition device is provided with: a vapor deposition tank holding therein a substrate having a film formation surface with which a deposition mask is in close contact; and a vapor deposition source arranged in the vapor deposition tank and emitting a film formation material toward the vapor deposition mask. The vapor deposition source includes: a container accommodating the film formation material and having an opening facing the vapor deposition mask; a heating device for heating the film formation material in the container; and an ultrasonic transducer for applying ultrasonic vibrations to the film formation material in the container.
(FR) L'invention concerne un dispositif de dépôt en phase vapeur permettant d'agencer une source de dépôt en phase vapeur à proximité d'un masque de dépôt en phase vapeur ou d'un substrat pour améliorer la capacité d'orientation d'un flux moléculaire d'un matériau de formation de film, afin d'accroître la précision d'un motif de formation de film. Le dispositif de dépôt en phase vapeur comprend : un réservoir de dépôt en phase vapeur contenant un substrat comportant une surface de formation de film avec laquelle un masque de dépôt est en contact étroit; et une source de dépôt en phase vapeur, agencée dans le réservoir de dépôt en phase vapeur et émettant un matériau de formation de film en direction du masque de dépôt en phase vapeur. La source de dépôt en phase vapeur comprend : un récipient recevant le matériau de formation de film et qui comporte une ouverture faisant face au masque de dépôt en phase vapeur; un dispositif chauffant pour chauffer le matériau de formation de film dans le récipient; et un transducteur ultrasonore pour appliquer des vibrations ultrasonores au matériau de formation de film dans le récipient.
(JA) 蒸着装置において、蒸着源を蒸着マスクや基板に近接配置させることを可能にし、成膜材料の分子流束の指向性を改善することで、成膜パターンの精度を向上させる。蒸着装置は、蒸着マスクが被成膜面に密着された基板を内部に保持する蒸着槽と、蒸着槽内に配置され、蒸着マスクに向けて成膜材料を放射する蒸着源とを備え、蒸着源は、成膜材料が収容されると共に蒸着マスクに向けた開口を有する容器と、容器内の成膜材料を加熱する加熱装置と、容器内の成膜材料に超音波振動を与える超音波振動子を備える。
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийское патентное ведомство (ЕАПВ) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)