Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019064520) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/064520 № международной заявки: PCT/JP2017/035577
Дата публикации: 04.04.2019 Дата международной подачи: 29.09.2017
МПК:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
21
Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
02
изготовление или обработка полупроводниковых приборов или их частей
027
образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам или
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
Заявители:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Изобретатели:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Агент:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Дата приоритета:
Название (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
Реферат:
(EN) An electron beam exposure apparatus using a photoelectric element (54i) that produces electrons due to irradiation with light comprises: a light optical system (80i) that has an optical device (84i) capable of supplying a plurality of light beams, and a projection system (86i) located between the optical device and the positioning location of the photoelectric element (54i); an electron optical system that makes electrons into an electron beam and bombards a target therewith, said electrons being produced from the photoelectric element (54i) due to irradiation with at least one light beam from the light optical system; and an adjustment apparatus that can adjust the location of the optical device.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'exposition à un faisceau d'électrons faisant appel à un élément photoélectrique (54i) qui produit des électrons au moyen d'un rayonnement lumineux, comprenant : un système lumineux optique (80i) qui comporte un dispositif optique (84i) pouvant fournir une pluralité de faisceaux lumineux, et un système de projection (86i) situé entre le dispositif optique et l'emplacement de positionnement de l'élément photoélectrique (54i) ; un système optoélectronique qui forme un faisceau d'électrons à partir d'électrons et bombarde une cible à l'aide dudit faisceau d'électrons, lesdits électrons étant produits à partir de l'élément photoélectrique (54i) au moyen du rayonnement d'au moins un faisceau lumineux provenant du système lumineux optique ; et un appareil de réglage qui peut régler l'emplacement du dispositif optique.
(JA) 光の照射により電子を発生する光電素子(54)を用いる電子ビーム露光装置は、複数の光ビームを提供可能な光学デバイス(84)、及び光学デバイスと光電素子(54)の配置位置との間に位置する投影系(86)を有する光光学系(80)と、光光学系からの少なくとも1つの光ビームの照射により光電素子(54)から発生する電子を電子ビームとしてターゲットに照射する電子光学系と、光学デバイスの位置を調整可能な調整装置と、を備える。
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)