Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019064452) VAPOR DEPOSITION PARTICLE EMITTING DEVICE, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION FILM PRODUCTION METHOD
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/064452 № международной заявки: PCT/JP2017/035297
Дата публикации: 04.04.2019 Дата международной подачи: 28.09.2017
МПК:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/00 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/14 (2006.01)
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
23
Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C
Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще
14
Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
22
характеризуемые способом покрытия
24
вакуумное испарение
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
23
Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C
Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще
14
Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
23
Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C
Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще
14
Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
22
характеризуемые способом покрытия
56
устройства, специально приспособленные для непрерывного процесса покрытия; приспособления для поддержания вакуума, например вакуумные затворы
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
05
Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
B
Электрический нагрев; устройства электрического освещения, не отнесенные к другим классам
33
Электролюминесцентные источники света
10
способы и устройства для изготовления электролюминесцентных источников света
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
05
Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
B
Электрический нагрев; устройства электрического освещения, не отнесенные к другим классам
33
Электролюминесцентные источники света
12
источники света, имеющие в основном двухмерные излучающие поверхности
14
отличающиеся по химическому составу, физической структуре или расположению электролюминесцентных материалов
Заявители:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Изобретатели:
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
Агент:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Дата приоритета:
Название (EN) VAPOR DEPOSITION PARTICLE EMITTING DEVICE, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION FILM PRODUCTION METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ÉMISSION DE PARTICULES DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, APPAREIL DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ PRODUCTION DE FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
Реферат:
(EN) A vapor deposition particle emitting device (1) is equipped with a second vapor deposition source (20) and a first vapor deposition source (10) and a third vapor deposition source (30) sandwiching the second vapor deposition source in the Y axis direction. In the first vapor deposition source and the third vapor deposition source, a plurality of nozzles (12, 31) inclined toward the second vapor deposition source are arranged in the X axis direction. In the second vapor deposition source, a plurality of nozzles (23) inclined toward the first vapor deposition source and a plurality of nozzles (22) inclined toward the third vapor deposition source are arranged in the X axis direction.
(FR) Cette invention concerne un dispositif d'émission de particules de dépôt en phase vapeur (1), équipé d'une deuxième source de dépôt en phase vapeur (20) et d'une première source de dépôt en phase vapeur (10) et d'une troisième source de dépôt en phase vapeur (30) prenant en sandwich la deuxième source de dépôt en phase vapeur dans la direction de l'axe Y. Dans la première source de dépôt en phase vapeur et la troisième source de dépôt en phase vapeur, une pluralité de buses (12, 31) inclinées vers la deuxième source de dépôt en phase vapeur sont agencées dans la direction de l'axe X. Dans la deuxième source de dépôt en phase vapeur, une pluralité de buses (23) inclinées vers la première source de dépôt en phase vapeur et une pluralité de buses (22) inclinées vers la troisième source de dépôt en phase vapeur sont agencées dans la direction de l'axe X.
(JA) 蒸着粒子射出装置(1)は、第2蒸着源(20)と、Y軸方向に第2蒸着源を挟む第1蒸着源(10)と第3蒸着源(30)とを備えている。第1蒸着源および第3蒸着源には、第2蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(12・31)がX軸方向に配列されている。第2蒸着源には、第1蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(23)と、第3蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(22)とがX軸方向に配列されている。
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)