Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019049830) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюроОтправить комментарий

№ публикации: WO/2019/049830 № международной заявки: PCT/JP2018/032630
Дата публикации: 14.03.2019 Дата международной подачи: 03.09.2018
МПК:
H03H 9/145 (2006.01) ,H03H 3/08 (2006.01) ,H03H 9/64 (2006.01)
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
03
Электронные схемы общего назначения
H
Цепи полного (активного и реактивного) сопротивления, например резонансные контуры; резонаторы
9
Схемы с электромеханическими или электроакустическими элементами; электромеханические резонаторы
02
конструктивные элементы
125
средства возбуждения, например электроды, катушки
145
для схем с использованием поверхностных акустических волн
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
03
Электронные схемы общего назначения
H
Цепи полного (активного и реактивного) сопротивления, например резонансные контуры; резонаторы
3
Способы и устройства для изготовления цепей с активными и реактивными сопротивлениями, резонансных контуров или резонаторов
007
для изготовления электромеханических резонаторов или цепей
08
для изготовления резонаторов или цепей (схем) с использованием поверхностных акустических волн
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
03
Электронные схемы общего назначения
H
Цепи полного (активного и реактивного) сопротивления, например резонансные контуры; резонаторы
9
Схемы с электромеханическими или электроакустическими элементами; электромеханические резонаторы
46
фильтры
64
с использованием поверхностных акустических волн
Заявители:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
Изобретатели:
高峰 裕一 TAKAMINE, Yuichi; JP
Агент:
吉川 修一 YOSHIKAWA, Shuichi; JP
傍島 正朗 SOBAJIMA, Masaaki; JP
Дата приоритета:
2017-17056705.09.2017JP
Название (EN) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FILTRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF DE FILTRE
(JA) フィルタ装置およびフィルタ装置の製造方法
Реферат:
(EN) This filter device (1) is provided with: a substrate (50) which has piezoelectricity; a first filter (10) which comprises an IDT electrode (52) that is provided on the substrate (50); an electrode (30a) for terminals, which is provided on the substrate (50); a first wiring electrode (41) which is provided on the substrate (50) and connects the first filter (10) and the electrode (30a) for terminals with each other; and a dielectric film (61) which is provided on the substrate (50) so as to cover the IDT electrode (52). At least a part of the first wiring electrode (41) is not covered by the dielectric film (61).
(FR) Ce dispositif de filtre (1) comprend : un substrat (50) qui présente une piézoélectricité ; un premier filtre (10) qui comprend une électrode IDT (52) qui est disposée sur le substrat (50) ; une électrode (30a) pour des bornes, qui est disposée sur le substrat (50) ; une première électrode de câblage (41) qui est disposée sur le substrat (50) et connecte le premier filtre (10) et l'électrode (30a) pour des bornes l'un à l'autre ; et un film diélectrique (61) qui est disposé sur le substrat (50) de manière à recouvrir l'électrode IDT (52). Au moins une partie de la première électrode de câblage (41) n'est pas recouverte par le film diélectrique (61).
(JA) フィルタ装置(1)は、圧電性を有する基板(50)と、基板(50)上に設けられたIDT電極(52)を含む第1フィルタ(10)と、基板(50)上に設けられた端子用電極(30a)と、基板(50)上に設けられ、第1フィルタ(10)と端子用電極(30a)とをつなぐ第1の配線電極(41)と、IDT電極(52)を覆うように基板(50)上に設けられた誘電体膜(61)とを備える。第1の配線電極(41)の少なくとも一部は、誘電体膜(61)に覆われていない。
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийское патентное ведомство (ЕАПВ) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)