Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019049795) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/049795 № международной заявки: PCT/JP2018/032434
Дата публикации: 14.03.2019 Дата международной подачи: 31.08.2018
МПК:
C09D 201/02 (2006.01) ,C07D 317/46 (2006.01) ,C07D 317/54 (2006.01) ,C07D 317/64 (2006.01) ,C07D 405/14 (2006.01) ,C08L 101/06 (2006.01) ,C09D 5/00 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01)
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
09
Красители; краски; полировальные составы; природные смолы; клеящие вещества; вещества или составы, не отнесенные к другим рубрикам; использование материалов, не отнесенных к другим рубрикам
D
Составы для нанесения покрытий, например краски, масляные или спиртовые лаки; заполняющие пасты; химические средства для удаления краски или чернил; чернила; корректирующие жидкости; средства для морения древесины; пасты или твердые вещества для окрашивания или печатания; использование материалов для этой цели
201
Составы для нанесения покрытий на основе высокомолекулярных соединений неуказанного строения
02
отличающихся специфичными группами
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
317
Гетероциклические соединения, содержащие пятичленные кольца только с двумя атомами кислорода в качестве гетероатомов
08
с гетероатомами в положениях 1, 3
44
орто- или пери-конденсированные с карбоциклическими кольцами или циклическими системами
46
конденсированные с одним шестичленным кольцом
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
317
Гетероциклические соединения, содержащие пятичленные кольца только с двумя атомами кислорода в качестве гетероатомов
08
с гетероатомами в положениях 1, 3
44
орто- или пери-конденсированные с карбоциклическими кольцами или циклическими системами
46
конденсированные с одним шестичленным кольцом
48
метилендиоксибензолы или гидрированные метилендиоксибензолы, не замещенные в гетероциклическом кольце
50
только с атомами водорода, углеводородными или замещенными углеводородными радикалами, непосредственно связанными с атомами карбоциклического кольца
54
радикалы, замещенные атомами кислорода
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
317
Гетероциклические соединения, содержащие пятичленные кольца только с двумя атомами кислорода в качестве гетероатомов
08
с гетероатомами в положениях 1, 3
44
орто- или пери-конденсированные с карбоциклическими кольцами или циклическими системами
46
конденсированные с одним шестичленным кольцом
48
метилендиоксибензолы или гидрированные метилендиоксибензолы, не замещенные в гетероциклическом кольце
62
с гетероатомами или атомами углерода, связанными тремя связями с гетероатомами (из которых одна может быть с галогеном), например с эфирными или нитрильными группами, непосредственно связанными с атомами карбоциклического кольца
64
атомы кислорода
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
405
Гетероциклические соединения, содержащие одно или несколько гетероциклических колец только с атомами кислорода в качестве гетероатомов и одно или несколько колец только с атомами азота в качестве гетероатомов
14
содержащие три или более гетероциклических кольца
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
L
Композиции высокомолекулярных соединений
101
Композиции высокомолекулярных соединений неуказанного строения
02
отличающихся специфичными группами
06
содержащими атомы кислорода
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
09
Красители; краски; полировальные составы; природные смолы; клеящие вещества; вещества или составы, не отнесенные к другим рубрикам; использование материалов, не отнесенных к другим рубрикам
D
Составы для нанесения покрытий, например краски, масляные или спиртовые лаки; заполняющие пасты; химические средства для удаления краски или чернил; чернила; корректирующие жидкости; средства для морения древесины; пасты или твердые вещества для окрашивания или печатания; использование материалов для этой цели
5
Составы для нанесения покрытий, например краски, масляные или спиртовые лаки, отличающиеся физическими свойствами или действием получаемого покрытия; заполняющие пасты
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
09
отличающиеся конструктивными элементами, например подложками, вспомогательными слоями
11
содержащие покрывающие или промежуточные слои, например подслой фотоэмульсии
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
26
обработка светочувствительных материалов; устройства для этой цели
Заявители:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Изобретатели:
中津 大貴 NAKATSU Hiroki; JP
高梨 和憲 TAKANASHI Kazunori; JP
酒井 一憲 SAKAI Kazunori; JP
松村 裕史 MATSUMURA Yuushi; JP
中川 大樹 NAKAGAWA Hiroki; JP
Агент:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
Дата приоритета:
2017-17255907.09.2017JP
Название (EN) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION, FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT À MOTIFS
(JA) 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法
Реферат:
(EN) The purpose of the invention is to provide: a composition capable of forming a film exhibiting excellent flatness, wet peeling resistance, and pattern bending resistance while maintaining solvent resistance; a film; a method for forming a film; and a method for producing a patterned substrate. The present invention pertains to a composition containing a solvent and a compound having a group represented by formula (1), having a molecular weight of at least 200, and having a carbon atom content of at least 40 mass%. In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-20 monovalent hydrocarbon group or C1-20 monovalent fluorinated hydrocarbon group, or a portion of an alicyclic structure which has 3-20 ring members and in which these groups are combined with each other together with carbon atoms bonded to these groups. Ar1 is a group obtained by removing (n+3) hydrogen atoms from an arene or heteroarene having 6-20 ring members. X is an oxygen atom, -CR3R4-, -CR3R4-O- or -O-CR3R4-.
(FR) L'objectif de l'invention est de fournir : une composition apte à former un film présentant une excellente planéité, une excellente résistance au pelage humide, et une résistance à la flexion de motif tout en maintenant la résistance aux solvants ; un film ; un procédé de formation d'un film ; et un procédé de production d'un substrat à motifs. À cet effet, la présente invention concerne une composition contenant un solvant et un composé ayant un groupe représenté par la formule (1), ayant un poids moléculaire d'au moins 200, et ayant une teneur en atomes de carbone d'au moins 40 % en masse. Dans la formule (1), R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent en C1-20 ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent en C1-20, ou une partie d'une structure alicyclique qui possède 3 à 20 éléments cycliques et dans laquelle ces groupes sont combinés les uns aux autres par des atomes de carbone liés à ces groupes. Ar1 est un groupe obtenu par élimination de (n +3) atomes d'hydrogène d'un arène ou d'un hétéroarène ayant 6 à 20 chaînons de cycle. X est un atome d'oxygène, -CR3R4-, -CR3R4-O- ou -O-CR3R4-.
(JA) 溶媒耐性を維持しつつ、平坦性、ウェット剥離耐性及びパターンの曲り耐性に優れる膜を形成できる組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される基を有し、分子量が200以上であり、炭素原子の含有率が40質量%以上である化合物と、溶媒とを含有する組成物である。下記式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1~20の1価の炭化水素基若しくは炭素数1~20の1価のフッ素化炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造の一部である。Arは、環員数6~20のアレーン又はヘテロアレーンから(n+3)個の水素原子を除いた基である。Xは、酸素原子、-CR-、-CR-O-又は-O-CR-である。
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)