Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019048145) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/048145 № международной заявки: PCT/EP2018/071069
Дата публикации: 14.03.2019 Дата международной подачи: 02.08.2018
МПК:
G03F 7/20 (2006.01)
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
Заявители:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Изобретатели:
MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus; NL
JAK, Martin, Jacobus, Johan; NL
BHATTACHARYYA, Kaustuve; NL
Агент:
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
Дата приоритета:
17190401.411.09.2017EP
17193415.127.09.2017EP
Название (EN) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
(FR) MÉTROLOGIE DANS DES PROCÉDÉS LITHOGRAPHIQUES
Реферат:
(EN) An apparatus and method for estimating a parameter of a lithographic process and an apparatus and method for determining a relationship between a measure of quality of an estimate of a parameter of a lithographic process are provided. In the apparatus for estimating the parameter a processor is configured to determine a quality of the estimate of the parameter relating to the tested substrate based on a measure of feature asymmetry in the at least first features of the tested substrate and further based on a relationship determined for a plurality of corresponding at least first features of at least one further substrate representative of the tested substrate, the relationship being between a measure of quality of an estimate of the parameter relating to the at least one further substrate and a measure of feature asymmetry in the corresponding first features.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé pour estimer un paramètre d'un processus lithographique ainsi qu'un appareil et un procédé pour déterminer une relation entre une mesure de qualité d'une estimation d'un paramètre d'un processus lithographique. Dans l'appareil pour estimer le paramètre, un processeur est conçu pour déterminer une qualité de l'estimation du paramètre relatif au substrat testé sur la base d'une mesure d'asymétrie de caractéristique dans au moins les premières caractéristiques du substrat testé et, en outre, sur la base d'une relation déterminée pour au moins une pluralité de premières caractéristiques correspondantes d'au moins un autre substrat représentatif du substrat testé, la relation étant entre une mesure de qualité d'une estimation du paramètre relatif à l'autre ou aux autres substrats et une mesure d'asymétrie de caractéristique dans les premières caractéristiques correspondantes.
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Английский (EN)
Язык подачи: Английский (EN)