Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019044668) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюроОтправить комментарий

№ публикации: WO/2019/044668 № международной заявки: PCT/JP2018/031231
Дата публикации: 07.03.2019 Дата международной подачи: 23.08.2018
МПК:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 220/12 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
038
высокомолекулярные соединения, обрабатываемые для придания нерастворимости или различной смачиваемости
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
F
Высокомолекулярные соединения, получаемые реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей
220
Сополимеры соединений, содержащих один или более ненасыщенных алифатических радикалов, каждый из которых содержит только одну углерод-углеродную двойную связь, и только один из них - только одну концевую карбоксильную или карбоксилатную (солевую), карбоксангидридную, карбоксэфирную, карбоксамидную, карбоксимидную или карбонитрильную группу
02
монокарбоновые кислоты, содержащие менее десяти атомов углерода; их производных
10
эфиры
12
одноатомных спиртов или фенолов
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
039
высокомолекулярные соединения, разлагающиеся под действием света, например позитивные электронные резисты
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
Заявители:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Изобретатели:
高桑 英希 TAKAKUWA Hideki; JP
吉野 文博 YOSHINO Fumihiro; JP
Агент:
特許業務法人航栄特許事務所 KOH-EI PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング9階 Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Дата приоритета:
2017-16785131.08.2017JP
Название (EN) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU À UN RAYONNEMENT, FILM DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU À UN RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性樹脂膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
Реферат:
(EN) Provided is an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin containing a repeating unit expressed by a specific general formula, a repeating unit expressed by a specific general formula, and a repeating unit expressed by a specific general formula, the content amount of the repeating unit expressed by general formula (1) being a range of 25-50 mol% with respect to all of the repeating units in the resin (A); (B) a compound that produces an acid through irradiation with an active light ray or radiation; and (C) a solvent. Also provided are: an active light-sensitive or radiation-sensitive resin film that uses the active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern-forming method; and a method for producing an electronic device.
(FR) L'invention fournit une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou à un rayonnement qui comprend : (A) une résine qui comprend à son tour une unité de répétition représentée par une formule générale spécifique, une unité de répétition représentée par une formule générale spécifique et une unité de répétition représentée par une formule générale spécifique, la teneur en unité de répétition représentée par la formule générale (1) étant comprise dans une plage de 25 à 50% en moles pour l'ensemble des unités de répétition contenues dans la résine (A) ; (B) un composé générant un acide par irradiation au moyen de rayons actiniques ou d'un rayonnement ; et (C) un solvant. L'invention fournit en outre un film de résine sensible aux rayons actiniques ou à un rayonnement, un procédé de formation de motif et un procédé de fabrication de dispositif électronique qui mettent en œuvre cette composition de résine sensible aux rayons actiniques ou à un rayonnement.
(JA) (A)特定の一般式で表される繰り返し単位、特定の一般式で表される繰り返し単位、及び特定の一般式で表される繰り返し単位を含有し、上記一般式(1)で表される繰り返し単位の含有量が、樹脂(A)中の全繰り返し単位に対して25~50モル%の範囲である樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийское патентное ведомство (ЕАПВ) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)