Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019044231) ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/044231 № международной заявки: PCT/JP2018/026910
Дата публикации: 07.03.2019 Дата международной подачи: 18.07.2018
МПК:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 20/22 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
039
высокомолекулярные соединения, разлагающиеся под действием света, например позитивные электронные резисты
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
F
Высокомолекулярные соединения, получаемые реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей
20
Гомополимеры или сополимеры соединений, содержащих один или более ненасыщенных алифатических радикалов, каждый из которых содержит только одну углерод-углеродную двойную связь, и только один из них - одну концевую карбоксильную или карбоксилатную (солевую), карбоксангидридную, карбоксэфирную, карбоксамидную, карбоксимидную или карбонитрильную группу
02
монокарбоновые кислоты, содержащие менее десяти атомов углерода; их производные
10
эфиры
22
эфиры, содержащие галоген
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
038
высокомолекулярные соединения, обрабатываемые для придания нерастворимости или различной смачиваемости
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
Заявители:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Изобретатели:
小川 倫弘 OGAWA Michihiro; JP
金子 明弘 KANEKO Akihiro; JP
川島 敬史 KAWASHIMA Takashi; JP
土村 智孝 TSUCHIMURA Tomotaka; JP
Агент:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
Дата приоритета:
2017-16778031.08.2017JP
Название (EN) ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
Реферат:
(EN) Provided is an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which has high sensitivity and enables the formation of a pattern that has excellent LER and collapse prevention ability. Also provided are: a resist film which uses this active light sensitive or radiation sensitive resin composition; a pattern forming method; and a method for producing an electronic device. This active light sensitive or radiation sensitive resin composition contains: a compound which produces an acid when irradiated with active light or radiation; and a resin, the polarity of which is increased by the action of an acid. The resin contains a repeating unit represented by general formula (B-1) and at least one halogen atom that is selected from the group consisting of a fluorine atom and an iodine atom.
(FR) L'invention concerne une composition de résine qui est sensible à la lumière active ou au rayonnement, qui présente une sensibilité élevée et qui permet la formation d'un motif qui a un excellent LER ainsi qu'une excellente capacité de prévention de l'affaissement. L'invention concerne également : un film de réserve utilisant cette composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement ; un procédé de formation de motif ; et un procédé de production d'un dispositif électronique. Cette composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement contient : un composé qui produit un acide lorsqu'il est irradié par une lumière active ou par un rayonnement actif ; et une résine dont la polarité est augmentée par l'action d'un acide. La résine contient une unité récurrente représentée par la formule générale (B-1) et au moins un atome d'halogène qui est choisi parmi le groupe constitué d'un atome de fluor et d'un atome d'iode.
(JA) 高感度であり、且つ、形成されるパターンがLER及び倒れ抑制能に優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、酸の作用により極性が増大する樹脂と、を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、上記樹脂が、下記一般式(B-1)で表される繰り返し単位と、フッ素原子及びヨウ素原子からなる群より選ばれる少なくとも1つのハロゲン原子と、を含む。
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)