Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019041976) METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE, ARRAY SUBSTRATE, AND DISPLAY APPARATUS
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/041976 № международной заявки: PCT/CN2018/091784
Дата публикации: 07.03.2019 Дата международной подачи: 19.06.2018
МПК:
H01L 21/77 (2017.01)
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
21
Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
70
изготовление и обработка приборов, состоящих из нескольких твердотельных компонентов или интегральных схем, сформированных на общей подложке или внутри нее, или их особых частей; изготовление приборов на интегральных схемах или их особых частей
77
изготовление или обработка приборов, состоящих из нескольких твердотельных компонентов или интегральных схем, сформированных на общей подложке или внутри нее
Заявители:
BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
Изобретатели:
BAN, Shengguang; CN
CAO, Zhanfeng; CN
YAO, Qi; CN
Агент:
TEE & HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; CHEN, Yuan 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005, CN
Дата приоритета:
201710772525.031.08.2017CN
Название (EN) METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE, ARRAY SUBSTRATE, AND DISPLAY APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET APPAREIL D'AFFICHAGE
Реферат:
(EN) The present application provides an array substrate. The array substrate includes a base substrate; a light shielding layer on the base substrate; a metal oxide layer on a side of the light shielding layer distal to the base substrate; and an active layer on a side of the metal oxide layer distal to the base substrate. The metal oxide layer includes a metal oxide material. The light shielding layer includes amorphous silicon. An orthographic projection of the light shielding layer on the base substrate substantially overlaps with an orthographic projection of the active layer on the base substrate, and substantially overlaps with an orthographic projection of the metal oxide layer on the base substrate.
(FR) La présente invention se rapporte à un substrat de réseau. Le substrat de réseau comprend un substrat de base; une couche de protection contre la lumière sur le substrat de base; une couche d'oxyde métallique sur un côté de la couche de protection contre la lumière distal par rapport au substrat de base; et une couche active sur un côté de la couche d'oxyde métallique distal par rapport au substrat de base. La couche d'oxyde métallique comprend un matériau d'oxyde métallique. La couche de protection contre la lumière comprend du silicium amorphe. Une projection orthographique de la couche de protection contre la lumière sur le substrat de base chevauche sensiblement une projection orthographique de la couche active sur le substrat de base, et chevauche sensiblement une projection orthographique de la couche d'oxyde métallique sur le substrat de base.
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Английский (EN)
Язык подачи: Английский (EN)