Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019039290) ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN-FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, RESIST FILM-EQUIPPED MASK BLANK, PATTERN-FORMING METHOD FOR RESIST FILM-EQUIPPED MASK BLANK
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюроОтправить комментарий

№ публикации: WO/2019/039290 № международной заявки: PCT/JP2018/029765
Дата публикации: 28.02.2019 Дата международной подачи: 08.08.2018
МПК:
G03F 7/004 (2006.01) ,C07C 381/12 (2006.01) ,C07D 231/54 (2006.01) ,C07D 265/10 (2006.01) ,C07D 275/04 (2006.01) ,C07D 281/18 (2006.01) ,C07D 309/08 (2006.01) ,C07D 319/06 (2006.01) ,C07D 327/08 (2006.01) ,C07D 333/42 (2006.01) ,C07D 333/46 (2006.01) ,C07D 333/76 (2006.01) ,C07D 335/02 (2006.01) ,C07D 493/04 (2006.01) ,C07D 493/08 (2006.01) ,C08K 5/42 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01) ,G03F 1/82 (2012.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01)
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
04
хроматы
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
C
Ациклические или карбоциклические соединения
381
Соединения, содержащие углерод и серу и имеющие функциональные группы, не отнесенные к группам
12
сульфониевые соединения
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
231
Гетероциклические соединения, содержащие 1,2-диазольные или гидрированные 1,2-диазольные кольца
54
конденсированные с карбоциклическими кольцами или циклическими системами
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
265
Гетероциклические соединения, содержащие шестичленные кольца только с одним атомом азота и одним атомом кислорода в качестве гетероатомов
04
1,3-оксазины; гидрированные 1,3-оксазины
06
не конденсированные с другими кольцами
08
с одной двойной связью в кольце или между кольцом и боковой цепью
10
с атомами кислорода, непосредственно связанными с атомами углерода кольца
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
275
Гетероциклические соединения, содержащие 1,2-тиазольные или гидрированные 1,2-тиазольные кольца
04
конденсированные с карбоциклическими кольцами или циклическими системами
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
281
Гетероциклические соединения, содержащие кольца из более чем шести членов только с одним атомом азота и одним атомом серы в качестве гетероатомов
18
восьмичленные кольца
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
309
Гетероциклические соединения, содержащие шестичленные кольца только с одним атомом кислорода в качестве гетероатома, не конденсированные с другими кольцами
02
не содержащие двойных связей в кольце или между кольцом и боковой цепью
08
с гетероатомами или атомами углерода, связанными тремя связями с гетероатомами (из которых одна может быть с галогеном), например с эфирными или нитрильными группами, непосредственно связанными с атомами углерода кольца
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
319
Гетероциклические соединения, содержащие шестичленные кольца только с двумя атомами кислорода в качестве гетероатомов
04
1, 3-диоксаны; гидрированные 1, 3-диоксаны
06
не конденсированные с другими кольцами
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
327
Гетероциклические соединения, содержащие кольца только с атомами кислорода и серы в качестве гетероатомов
02
с одним атомом кислорода и одним атомом серы
06
шестичленные кольца
08
[в, е]-конденсированные с двумя шестичленными карбоциклическими кольцами
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
333
Гетероциклические соединения, содержащие пятичленные кольца только с одним атомом серы в качестве гетероатома
02
не конденсированные с другими кольцами
04
не замещенные при атоме серы кольца
26
с гетероатомами или атомами углерода, связанными тремя связями с гетероатомами (из которых одна может быть с галогеном), например с эфирными или нитрильными группами, непосредственно связанными с атомами углерода кольца
42
с нитро- или нитрозогруппами, непосредственно связанными с атомами углерода кольца
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
333
Гетероциклические соединения, содержащие пятичленные кольца только с одним атомом серы в качестве гетероатома
02
не конденсированные с другими кольцами
46
замещенные при атоме серы кольца
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
333
Гетероциклические соединения, содержащие пятичленные кольца только с одним атомом серы в качестве гетероатома
50
конденсированные с карбоциклическими кольцами или циклическими системами
76
дибензотиофены
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
335
Гетероциклические соединения, содержащие шестичленные кольца только с одним атомом серы в качестве гетероатома
02
не конденсированные с другими кольцами
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
493
Гетероциклические соединения, содержащие в конденсированной системе только атомы кислорода в качестве гетероатомов
02
в которых конденсированная система содержит два гетероциклических кольца
04
орто-конденсированные системы
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
07
Органическая химия
D
Гетероциклические соединения
493
Гетероциклические соединения, содержащие в конденсированной системе только атомы кислорода в качестве гетероатомов
02
в которых конденсированная система содержит два гетероциклических кольца
08
мостиковые системы
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
K
Использование неорганических или низкомолекулярных органических веществ в качестве компонентов для композиций на основе высокомолекулярных соединений
5
Использование органических компонентов
36
серо-, селен- или теллурсодержащие соединения
41
соединения, содержащие серу, связанную с кислородом
42
сульфокислоты; их производные
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
L
Композиции высокомолекулярных соединений
101
Композиции высокомолекулярных соединений неуказанного строения
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
1
Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление
68
процессы изготовления, не отнесенные к группам
82
вспомогательные процессы, например чистка
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
038
высокомолекулярные соединения, обрабатываемые для придания нерастворимости или различной смачиваемости
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
004
светочувствительные материалы
039
высокомолекулярные соединения, разлагающиеся под действием света, например позитивные электронные резисты
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
09
Красители; краски; полировальные составы; природные смолы; клеящие вещества; вещества или составы, не отнесенные к другим рубрикам; использование материалов, не отнесенных к другим рубрикам
K
Материалы, не отнесенные к другим подклассам; использование материалов, не отнесенных к другим подклассам
3
Материалы, не отнесенные к другим рубрикам
Заявители:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Изобретатели:
土村 智孝 TSUCHIMURA Tomotaka; JP
八木 一成 YAGI Kazunari; JP
Агент:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
Дата приоритета:
2017-16086424.08.2017JP
Название (EN) ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN-FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, RESIST FILM-EQUIPPED MASK BLANK, PATTERN-FORMING METHOD FOR RESIST FILM-EQUIPPED MASK BLANK
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DÉCOUPE DE MASQUE ÉQUIPÉE D'UN FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DESTINÉ À UNE DÉCOUPE DE MASQUE ÉQUIPÉE D'UN FILM DE RÉSERVE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、レジスト膜付きマスクブランクス、レジスト膜付きマスクブランクスのパターン形成方法
Реферат:
(EN) Provided are: an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has excellent resolution, exposure latitude, and pattern shape properties; and a resist film, a pattern-forming method, a method for producing an electronic device, a resist film-equipped mask blank, and a pattern-forming method for a resist film-equipped mask blank, which use said actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition. This actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: a compound that generates an acid represented by specific general formula (I) upon being irradiated with an actinic ray or radiation; and a resin.
(FR) L'invention concerne : une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement qui présente une excellente résolution, une excellente latitude d'exposition et des propriétés de forme de motif ; un film de réserve, un procédé de formation de motif, un procédé de fabrication d'un dispositif électronique, une découpe de masque équipée d'un film de réserve, et un procédé de formation de motif destiné à une découpe de masque équipée d'un film de réserve, qui utilisent ladite composition de résine sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement. Cette composition de résine sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement comporte : un composé qui génère un acide représenté par la formule générale spécifique (I) lorsqu'il est exposé à un rayon actinique ou à un rayonnement ; une résine.
(JA) 解像力、露光ラチチュード、および、パターン形状特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、レジスト膜付きマスクブランクス、及び、レジスト膜付きマスクブランクスのパターン形成方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により特定の一般式(I)で表される酸を発生する化合物と、樹脂とを含有する。
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийское патентное ведомство (ЕАПВ) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)