Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019025036) OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/025036 № международной заявки: PCT/EP2018/057865
Дата публикации: 07.02.2019 Дата международной подачи: 28.03.2018
МПК:
G03F 7/20 (2006.01)
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
Заявители:
GROSSMANN, Jan [DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
Изобретатели:
GROSSMANN, Jan; DE
Агент:
FRANK, Hartmut; DE
Дата приоритета:
10 2017 213 121.731.07.2017DE
Название (EN) OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
(DE) OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
Реферат:
(EN) The invention relates to an optical system for microlithography, the optical system being designed for operation with electromagnetic radiation, which passes through the optical system along a useful beam path, having at least one component (105) which has a region situated outside the useful beam path, said region having a catalytically or chemically active layer (110), and the catalytically or chemically active layer (110) and/or a substrate (230, 240) supporting said layer (110) being porous.
(FR) L'invention concerne un système optique pour la microlithographie, le système optique étant conçu pour un fonctionnement par rayonnement électromagnétique, ledit système optique parcourt un trajet optique utile, comprenant au moins un élément (105) qui présente une zone se trouvant hors du trajet optique utile, cette zone présentant une couche catalytiquement ou chimiquement active (110), et la couche catalytiquement ou chimiquement active (1 10) et/ou un support (230, 240) portant cette couche (110) étant poreux.
(DE) Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Mikrolithographie, wobei das optische System für einen Betrieb mit elektromagnetischer Strahlung ausgelegt ist, welche das optische System entlang eines Nutzstrahlengangs durchläuft, mit wenigstens einer Komponente (105), welche einen außerhalb des Nutzstrahlengangs befindlichen Bereich aufweist, wobei dieser Bereich eine katalytische oder chemisch aktive Schicht (110) aufweist, und wobei die katalytische oder chemisch aktive Schicht (110) und/oder ein diese Schicht (110) tragender Träger (230, 240) porös ist.
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Немецкий (DE)
Язык подачи: Немецкий (DE)