Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2018220979) CATHODE PLATE FOR METAL ELECTRODEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2018/220979 № международной заявки: PCT/JP2018/013187
Дата публикации: 06.12.2018 Дата международной подачи: 29.03.2018
Требованиe в соответствии с Главой 2 подано: 24.08.2018
МПК:
C25C 7/02 (2006.01) ,C23F 1/02 (2006.01) ,C25C 1/08 (2006.01) ,C25D 17/12 (2006.01)
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
25
Электролитические способы или электрофорез; устройства для них
C
Получение, регенерация или рафинирование металлов электролитическим способом; устройства для этих целей
7
Конструктивные элементы электролизеров или их сборка; уход или управление электролизерами
02
электроды ; соединения для них
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
23
Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
F
Немеханическое удаление металлического материала с поверхности ; способы ингибирования коррозии металлического материала; ингибирование образования накипи вообще ; многоступенчатые процессы для поверхностной обработки металлического материала, включающие по меньшей мере один способ, предусмотренный в классе , и по меньшей мере один способ, охватываемый подклассом или или классом
1
Травление металлического материала химическими средствами
02
местное
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
25
Электролитические способы или электрофорез; устройства для них
C
Получение, регенерация или рафинирование металлов электролитическим способом; устройства для этих целей
1
Электролитическое получение, регенерация или рафинирование металлов электролизом растворов
06
металлов группы железа, тугоплавких металлов или марганца
08
никеля или кобальта
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
25
Электролитические способы или электрофорез; устройства для них
D
Нанесение покрытий электролитическим способом или способом электрофореза; гальванопластика ; соединение рабочих частей электролизом; устройства для этих целей
17
Конструктивные элементы электролизеров или их сборка для нанесения покрытий электролитическим способом
10
электроды
12
отличающиеся формой
Заявители:
住友金属鉱山株式会社 SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都港区新橋5-11-3 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716, JP
Изобретатели:
渡邉 寛人 WATANABE Hiroto; JP
松岡 いつみ MATSUOKA Itsumi; JP
仙波 祐輔 SENBA Yusuke; JP
小林 宙 KOBAYASHI Hiroshi; JP
Агент:
正林 真之 SHOBAYASHI Masayuki; JP
林 一好 HAYASHI Kazuyoshi; JP
Дата приоритета:
2017-10579629.05.2017JP
Название (EN) CATHODE PLATE FOR METAL ELECTRODEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME
(FR) PLAQUE DE CATHODE POUR ÉLECTRODÉPOSITION DE MÉTAL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 金属電着用陰極板及びその製造方法
Реферат:
(EN) Provided are: a cathode plate for metal electrodeposition which makes it less likely to lose a non-conductive film on a metal plate, which can be used repeatedly, and for which maintenance is easy even if a non-conductive film is lost; and a manufacturing method for such cathode plate. This cathode plate 1 includes a metal plate 2 on which a plurality of disk-shaped projections 2a are arranged, and a non-conductive film 3 formed in flat sections 2b which are sections of the metal plate 2 other than the projections 2a. The projections 2a each have a side face that has a shape formed of a substantially vertical section 2d and an inclined section 2e. A height L1 of each projection 2a is 50µm to 1000µm, and when an intersection of the side face of the projection and a vertical line that is vertically lowered from a position X that is 20µm outward from the outer peripheral edge of the projection is defined as Y, then a length L2 from X to Y is at least 40µm but not more than 0.8×L1µm.
(FR) L'invention concerne : une plaque de cathode pour électrodéposition de métal rendant moins susceptible de perdre un film non conducteur sur une plaque métallique, pouvant être utilisée de manière répétée, et pour laquelle une maintenance est facile même si un film non conducteur est perdu ; et un procédé de fabrication pour une telle plaque de cathode. Cette plaque de cathode 1 comprend une plaque métallique 2 sur laquelle sont disposées une pluralité de saillies en forme de disque 2a, et un film non conducteur 3 formé dans des sections plates 2b qui sont des sections de la plaque métallique 2 autres que les saillies 2a. Les saillies 2a ont chacune une face latérale qui a une forme formée d'une section sensiblement verticale 2d et d'une section inclinée 2e. Une hauteur L1 de chaque saillie 2a est de 50 µm à 1000 µm, et lorsqu'une intersection de la face latérale de la saillie et d'une ligne verticale qui est abaissée verticalement à partir d'une position X qui est de 20 µm vers l'extérieur depuis le bord périphérique externe de la saillie est définie comme Y, alors une longueur L2 de X à Y est d'au moins 40 µm mais inférieure ou égale à 0,8 × L1 µm.
(JA) 金属板上の非導電膜が欠落しにくく、繰り返し使用可能で、且つ非導電膜が欠落した場合であっても整備が容易な金属電着用陰極板及びその製造方法を提供する。 本発明の陰極板1は、複数の円盤状の突起部2aが配列している金属板2と、金属板2の突起部2a以外の平坦部2bに形成される非導電膜3と、を有し、突起部2aは、その側面が、略垂直部2dと傾斜部2eとからなる形状を有している。また、突起部2aの高さL1は、50μm以上1000μm以下であり、突起部の外周縁から外側に20μm離れた位置Xから垂直に下ろした垂線と側面との交点をYとするとき、XからYまでの長さL2は、40μm以上であり0.8×L1μm以下である。
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)