Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2017144277) SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2017/144277 № международной заявки: PCT/EP2017/052806
Дата публикации: 31.08.2017 Дата международной подачи: 09.02.2017
МПК:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
21
Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
67
устройства, специально предназначенные для манипулирования полупроводниковыми или электронными устройствами на твердом теле при их изготовлении или обработке; устройства, специально предназначенные для манипулирования полупроводниковыми пластинами при изготовлении или обработке полупроводниковых или электрических устройств на твердом теле или их компонентов
677
для транспортировки, например между различными рабочими местами
Заявители:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Изобретатели:
VERVOORDELDONK, Michael, Johannes; NL
LOF, Joeri; NL
Агент:
RAS, Michael; NL
Дата приоритета:
16157034.624.02.2016EP
Название (EN) SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) SYSTÈME DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Реферат:
(EN) There is provided a substrate handling system (200) for handling a substrate (W), comprising a holder (202), a rotation device (206) and a mover (204). The holder is for holding the substrate. The rotation device is for rotating the holder around an axis (208) perpendicular to a plane. The mover is for moving the holder along a path in the plane relative to the axis. Further, there is provided a lithographic apparatus comprising the substrate handling system. The substrate handling system may comprise a coupling device (210) arranged to couple the holder to one of the mover and the rotation device in a first situation. The coupling device may be arranged to decouple the holder from the one of the mover and the rotation device in a second situation.
(FR) La présente invention concerne un système de manipulation de substrat (200) pour traiter un substrat (W), comprenant un support (202), un dispositif de rotation (206) et un moyen de déplacement (204). Le support est destiné à maintenir le substrat. Le dispositif de rotation est destiné à faire tourner le support autour d'un axe (208) perpendiculairement à un plan. Le moyen de déplacement est destiné à déplacer le support le long d'un chemin dans le plan par rapport à l'axe. En outre, il est prévu un appareil lithographique comprenant le système de manipulation de substrat. Le système de manipulation de substrat peut comprendre un dispositif de couplage (210) agencé pour coupler le support à l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une première situation. Le dispositif de couplage peut être agencé pour découper le support de l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une seconde situation.
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Английский (EN)
Язык подачи: Английский (EN)