Поиск по международным и национальным патентным фондам
Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2017002506) IMPRINT MATERIAL
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро

№ публикации: WO/2017/002506 № международной заявки: PCT/JP2016/066010
Дата публикации: 05.01.2017 Дата международной подачи: 31.05.2016
МПК:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 220/26 (2006.01) ,C08F 283/12 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01)
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
21
Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
02
изготовление или обработка полупроводниковых приборов или их частей
027
образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам или
B РАЗЛИЧНЫЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ; ТРАНСПОРТИРОВАНИЕ
29
Обработка пластиков; обработка веществ в пластическом состоянии вообще
C
Формование или соединение пластиков; формование веществ в пластическом состоянии вообще; последующая обработка формованных изделий, например ремонт
59
Придание формы поверхности, например тиснение, гофрирование; устройства для этого
02
механическими средствами, например прессованием
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
F
Высокомолекулярные соединения, получаемые реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей
2
Способы полимеризации
44
полимеризация в присутствии добавок, например пластификаторов, красителей, наполнителей
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
F
Высокомолекулярные соединения, получаемые реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей
220
Сополимеры соединений, содержащих один или более ненасыщенных алифатических радикалов, каждый из которых содержит только одну углерод-углеродную двойную связь, и только один из них - только одну концевую карбоксильную или карбоксилатную (солевую), карбоксангидридную, карбоксэфирную, карбоксамидную, карбоксимидную или карбонитрильную группу
02
монокарбоновые кислоты, содержащие менее десяти атомов углерода; их производных
10
эфиры
26
эфиры,содержащие кроме карбоксильного кислорода другие атомы кислорода
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
F
Высокомолекулярные соединения, получаемые реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей
283
Высокомолекулярные соединения, полученные полимеризацией мономеров на полимерах, отнесенных к подклассу
12
на полисилоксанах
C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
08
Органические высокомолекулярные соединения; их получение или химическая обработка; композиции на основе этих соединений
F
Высокомолекулярные соединения, получаемые реакциями с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей
290
Высокомолекулярные соединения, полученные полимеризацией мономеров на полимерах, модифицированных введением алифатически ненасыщенных концевых или боковых групп
02
на полимерах модифицированных введением ненасыщенных концевых групп
06
полимеры, отнесенные к подклассу
Заявители:
日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
Изобретатели:
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke; JP
鈴木 正睦 SUZUKI, Masayoshi; JP
Агент:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Дата приоритета:
2015-12986129.06.2015JP
Название (EN) IMPRINT MATERIAL
(FR) MATÉRIAU D'EMPREINTE
(JA) インプリント材料
Реферат:
(EN) [Problem] To provide a novel imprint material. [Solution] An imprint material which contains the component (A), component (B), component (C) and component (D) described below. (A) a compound represented by formula (1) (B) a compound represented by formula (2) (C) a compound represented by formula (3) (D) a photopolymerization initiator (In the formulae, each R1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group; R2 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms, which may have a hydroxy group as a substituent; m represents 2 or 3; X represents a divalent linking group having an ethylene oxide unit and/or a propylene oxide unit; R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-3 carbon atoms; n represents 1 or 2; in cases where n is 1, R4 represents an alkyl group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent; and in cases where n is 2, R4 represents an alkylene group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent.)
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un nouveau matériau d'empreinte. La solution selon l'invention porte sur un matériau d'empreinte qui contient le constituant (A), le constituant (B), le constituant (C) et le constituant (D) décrits ci-après. (A) un composé représenté par la formule (1), (B) un composé représenté par la formule (2), (C) un composé représenté par la formule (3), (D) un initiateur de photopolymérisation, (dans les formules, chaque R1 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; R2 représente un groupe hydrocarboné comportant de 1 à 5 atomes de carbone, qui peut posséder un groupe hydroxy comme substituant ; m équivaut à 2 ou 3 ; X représente un groupe de liaison divalent comportant un motif oxyde d'éthylène et/ou un motif oxyde de propylène ; R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle comportant de 1 à 3 atomes de carbone ; n équivaut à 1 ou 2 ; dans les cas où n équivaut à 1, R4 représente un groupe alkyle comportant de 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant ; et dans les cas où n équivaut à 2, R4 représente un groupe alkylène comportant 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant).
(JA) 【課題】 新規なインプリント材料を提供すること。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含有するインプリント材料。 (A)下記式(1)で表される化合物 (B)下記式(2)で表される化合物 (C)下記式(3)で表される化合物 (D)光重合開始剤 (式中、Rはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Rは置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数1乃至5の炭化水素基を表し、mは2又は3を表し、Xはエチレンオキサイドユニット及び/又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、Rは水素原子又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表し、nは1又は2を表し、nが1を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキル基を表し、nが2を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキレン基を表す。)
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийское патентное ведомство (ЕАПВ) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Японский (JA)
Язык подачи: Японский (JA)
Также опубликовано как:
CN107710385KR1020180021725JPWO2017002506US20180180999