Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2012125401) NOVEL ETCHING COMPOSITION
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро   

№ публикации: WO/2012/125401 № международной заявки: PCT/US2012/028249
Дата публикации: 20.09.2012 Дата международной подачи: 08.03.2012
МПК:
C09K 13/00 (2006.01)
[IPC code unknown for C09K 13]
Заявители:
TAKAHASHI, Tomonori [JP/US]; US (UsOnly)
INABA, Tadashi [JP/JP]; JP (UsOnly)
MIZUTANI, Atsushi [JP/JP]; JP (UsOnly)
DU, Bing [CN/US]; US (UsOnly)
WOJTCZAK, William A. [US/US]; US (UsOnly)
TAKAHASHI, Kazutaka [JP/JP]; JP (UsOnly)
KAMIMURA, Tetsuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC. [US/US]; 80 Circuit Drive North Kingstown, Rhode Island 02852, US (AllExceptUS)
FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku, Tokyo 1060031, JP (AllExceptUS)
Изобретатели:
TAKAHASHI, Tomonori; US
INABA, Tadashi; JP
MIZUTANI, Atsushi; JP
DU, Bing; US
WOJTCZAK, William A.; US
TAKAHASHI, Kazutaka; JP
KAMIMURA, Tetsuya; JP
Агент:
WEFERS, Marc M.; Fish & Richardson P.C. P.O. Box 1022 Minneapolis, Minnesota 55440-1022, US
Дата приоритета:
61/451,91011.03.2011US
61/540,85029.09.2011US
Название (EN) NOVEL ETCHING COMPOSITION
(FR) NOUVELLE COMPOSITION DE GRAVURE
Реферат:
(EN) This disclosure relates to an etching composition containing at least one sulfonic acid, at least one compound containing a halide anion, the halide being chloride or bromide, at least one compound containing a nitrate or nitrosyl ion, and water. The at least one sulfonic acid can be from about 25% by weight to about 95% by weight of the composition. The halide anion can be chloride or bromide, and can be from about 0.01% by weight to about 0.5% by weight of the composition. The nitrate or nitrosyl ion can be from about 0.1% by weight to about 20% by weight of the composition. The water can be at least about 3% by weight of the composition.
(FR) Cette invention concerne une composition de gravure contenant au moins un acide sulfonique, au moins un composé contenant un anion halogénure, l'halogénure étant un chlorure ou un bromure, au moins un composé contenant un nitrate ou un ion nitrosyle, et de l'eau. Le ou les acides sulfoniques peuvent représenter environ 25 % en poids à environ 95 % en poids de la composition. L'anion halogénure peut être un chlorure ou un bromure, et peut représenter environ 0,01 % en poids à environ 0,5 % en poids de la composition. Le nitrate ou l'ion nitrosyle peut représenter environ 0,1 % en poids à environ 20 % en poids de la composition. L'eau peut représenter au moins environ 3 % en poids de la composition.
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Английский (EN)
Язык подачи: Английский (EN)