Поиск по международным и национальным патентным фондам
Часть содержимого этой заявки в данный момент недоступно.
Если такая ситуация продолжится, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2004019128) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро

№ публикации: WO/2004/019128 № международной заявки: PCT/JP2003/010665
Дата публикации: 04.03.2004 Дата международной подачи: 22.08.2003
МПК:
G02B 17/08 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G ФИЗИКА
02
Оптика
B
Оптические элементы, системы или приборы
17
Оптические системы с отражающими поверхностями, с преломляющими элементами или без них
08
катадиоптрические системы
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
Заявители:
NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
IKEZAWA, Hironori [JP/JP]; JP (UsOnly)
WILLIAMSON, David, M. [GB/GB]; GB (UsOnly)
Изобретатели:
OMURA, Yasuhiro; JP
IKEZAWA, Hironori; JP
WILLIAMSON, David, M.; GB
Агент:
HASEGAWA, Yoshiki ; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg. 10-6, Ginza 1-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061, JP
Дата приоритета:
0311470.919.05.2003GB
2002-24292523.08.2002JP
Название (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION ET PROCEDE ASSOCIE POUR LA PHOTOLITHOGRAPHIE, ET APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE ASSOCIE
Реферат:
(EN) Optical Projection System and Method for Photolithography. A lithographic immersion projection system and method for projecting an image at high resolution over a wide field of view. The projection system and method include a final lens which decreases the marginal ray angle of the optical path before light passes into the immersion liquid to impinge on the image plane.
(FR) L'invention concerne un système optique de projection et un procédé associé pour la photolithographie. Elle concerne également un système de projection par immersion lithographique et un procédé de projection d'une image à haute résolution sur un grand champ de vision. Le système de projection comprend une lentille terminale qui réduit l'angle de rayon marginal du chemin optique avant que la lumière entre dans le liquide d'immersion pour venir frapper le plan d'image.
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация интеллектуальной собственности (АРОИС) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийское патентное ведомство (ЕАПВ) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Английский (EN)
Язык подачи: Английский (EN)
Also published as:
KR1020050035890EP1532489JP2005536775US20050248856US20080068573US20080068576
US20080068724US20080094696US20080049306US20080049336CN1668984AU2003256081