WIPO logo
Мобильная версия | Deutsch | English | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Поиск по международным и национальным патентным фондам
World Intellectual Property Organization
Поиск
 
Просмотреть
 
Перевод
 
Настройки
 
Новости
 
Войти в систему
 
Помощь
 
Автоматизированный перевод
1. (WO1994014863) METAL ION REDUCTION IN THE RAW MATERIALS
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро   

TranslationПеревести: оригинал-->русский
№ публикации:    WO/1994/014863    № международной заявки:    PCT/US1993/012406
Дата публикации: 07.07.1994 Дата международной подачи: 20.12.1993
Требованиe в соответствии с Главой 2 подано:    27.07.1994    
МПК:
C08G 8/08 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01)
Заявители: HOECHST CELANESE CORPORATION [US/US]; Route 202-206 North, Somerville, NJ 08876 (US)
Изобретатели: RAHMAN, M., Dalil; (US).
LU, Ping-Hung; (US).
AUBIN, Daniel, P.; (US).
DAMMEL, Ralph, R.; (US)
Агент: SAYKO, Andrew, F., Jr.; Hoechst Celanese Corporation, 86 Morris Avenue, Summit, NJ 07901 (US)
Дата приоритета:
07/999,500 29.12.1992 US
Название (EN) METAL ION REDUCTION IN THE RAW MATERIALS
(FR) REDUCTION DU NIVEAU D'IONS METALLIQUES DANS DES MATIERES PREMIERES
Реферат: front page image
(EN)The present invention provides methods for producing water insoluble, aqueous alkali soluble novolak resins having a very low level of metal ions and a substantially consistent molecular weight. A method is also provided for producing photoresist composition from such novolak resins and for producing semiconductor devices using such photoresist compositions.
(FR)L'invention concerne des procédés de production de novolaques aqueuses solubles dans l'alcali et insolubles dans l'eau présentant un très faible niveau d'ions métalliques et une masse molaire conséquente. L'invention porte également sur un procédé de production de compositions à photorésist à partir de ces novolaques et de production de dispositifs à semiconducteurs à l'aide de ces compositions à photorésist.
Указанные государства: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Язык публикации: English (EN)
Язык подачи: English (EN)