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1. (WO2019066313) PHOTOPOLYMER COMPOSITION
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№ de pub.: WO/2019/066313 № do pedido internacional: PCT/KR2018/010635
Data de publicação: 04.04.2019 Data de depósito internacional: 11.09.2018
CIP:
G03F 7/075 (2006.01) ,C08F 299/02 (2006.01) ,C08L 33/06 (2006.01) ,C08L 43/04 (2006.01) ,C08K 5/541 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01)
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
004
Materiais fotossensíveis
075
Compostos contendo silício
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
299
Compostos macromoleculares obtidos por meio de reação interna de polímeros envolvendo apenas reações de ligação insaturada carbono-carbono, na ausência de monômeros não-macromoleculares
02
a partir de policondensados insaturados
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
33
Composições de homopolímeros ou copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma dupla ligação carbono-carbono, e sendo somente um terminado por um único radical carboxila, ou seus sais, anidridos, ésteres, amidas, imidas ou nitrilas; Composições de derivados desses polímeros
04
Homopolímeros ou copolímeros de ésteres
06
de ésteres contendo apenas carbono, hidrogênio e oxigênio, o átomo de oxigênio presente somente como parte do radical carboxila
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
43
Composições de homopolímeros ou copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e contendo boro, silício, fósforo, selênio, telúrio ou um metal; Composições de derivados desses polímeros
04
Homopolímeros ou copolímeros de monômeros contendo silício
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
5
Uso de ingredientes orgânicos
54
Compostos contendo silício
541
contendo oxigêncio
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
2
Processos de polimerização
46
Polimerização iniciada por energia de ondas ou por irradiação de partículas
48
pela luz ultravioleta ou visível
50
com agentes sensibilizantes
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
004
Materiais fotossensíveis
027
Compostos fotopolimerizáveis não-macromoleculares tendo ligações duplas carbono-carbono, p. ex., compostos etilênicos
G FÍSICA
02
ÓPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS OU APARELHOS ÓPTICOS
5
Elementos ópticos outros que não lentes
20
Filtros
Requerentes:
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
Inventores:
장석훈 JANG, Seok Hoon; KR
김헌 KIM, Heon; KR
허용준 HEO, Yongjoon; KR
권세현 KWON, Se Hyun; KR
장영래 CHANG, Yeong Rae; KR
Mandatário:
유미특허법인 YOU ME PATENT AND LAW FIRM; 서울시 강남구 테헤란로 115 115 Teheran-ro Gangnam-gu Seoul 06134, KR
Dados da prioridade:
10-2017-012544627.09.2017KR
10-2018-010799610.09.2018KR
Título (EN) PHOTOPOLYMER COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHOTO-POLYMÈRE
(KO) 포토폴리머 조성물
Resumo:
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a photopolymer composition capable of more readily providing a photopolymer layer having improved durability against temperature and humidity while having a large refractive index modulation value; a holographic recording medium using the same; an optical device; and a holographic recording method.
(FR) La présente invention a pour objet : une composition photo-polymère capable de fournir plus facilement une couche photo-polymère ayant une résistance thermique et à l'humidité améliorée tout en ayant une grande valeur de modulation d'indice de réfraction ; un support d'enregistrement holographique employant celle-ci ; un dispositif optique ; et un procédé d'enregistrement holographique.
(KO) 본 발명은 굴절율 변조값이 크면서도 온도 및 습도에 대한 내구성이 향상된 포토폴리머층을 보다 용이하게 제공할 수 있는 포토폴리머 조성물, 이를 이용한 홀로그램 기록 매체, 광학 소자, 및 홀로그래픽 기록 방법을 제공하기 위한 것이다.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: coreano (KO)
Língua de depósito: coreano (KO)