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1. (WO2019064530) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
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№ de pub.: WO/2019/064530 № do pedido internacional: PCT/JP2017/035598
Data de publicação: 04.04.2019 Data de depósito internacional: 29.09.2017
CIP:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/073 (2006.01)
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
02
Fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou de partes dos mesmos
027
Fabricação de máscaras sobre corpos semicondutores para tratamento fotolitográfico posterior, não previsto nos subgrupos H01L21/18 ou H01L21/34186
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
J
VÁLVULAS DE DESCARGA ELÉTRICA OU LÂMPADAS DE DESCARGA
37
Válvulas de descarga com meios para introduzir objetos ou materiais a serem expostos à descarga, p. ex., para fins de exame ou processamento dos mesmos
02
Detalhes
04
Disposições de eletrodos e elementos associados para produzir ou controlar a descarga, p. ex., disposição óptico-eletrônica, disposição óptico-iônica
06
Fontes eletrônicas; Canhões de elétrons
073
Canhões de elétrons usando emissão de campo, fotoemissão ou fontes de elétrons de emissão secundária
Requerentes:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventores:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Mandatário:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Dados da prioridade:
Título (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
(FR) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET ÉLÉMENT PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 電子ビーム装置、デバイス製造方法、露光方法及び光電素子
Resumo:
(EN) An electron beam apparatus comprises: a plurality of light emitting units (84a); and an electron beam optical system that makes electrons into a plurality of electron beams (EB) and can bombard a target therewith, said electrons being emitted from a photoelectric conversion layer (60) by the photoelectric conversion layer (60) being irradiated with a plurality of light beams (LB) due to the light emission of the plurality of light emitting units, wherein the lights from each of the plurality of light emitting units are incident on the photoelectric conversion layer (60) without passing through a space.
(FR) Cette invention concerne un appareil à faisceau électronique, comprenant : une pluralité d'unités d'émission de lumière (84a) ; et un système optique à faisceau électronique qui forme des électrons en une pluralité de faisceaux électroniques (EB) et peut bombarder une cible avec ceux-ci, lesdits électrons étant émis à partir d'une couche de conversion photoélectrique (60) sous l'effet de l'irradiation de couche de conversion photoélectrique (60) par une pluralité de faisceaux lumineux (LB) provenant de l'émission de lumière de la pluralité d'unités d'émission de lumière, la lumière provenant de chacune de la pluralité d'unités d'émission de lumière étant incidente sur la couche de conversion photoélectrique (60) sans passer à travers un espace.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の発光部(84a)と、複数の発光部の発光により複数の光ビーム(LB)が光電変換層(60)に照射されることによって光電変換層(60)から放出される電子を複数の電子ビーム(EB)としてターゲットに照射可能な電子ビーム光学系と、を備え、複数の発光部それぞれからの光は、空間を介さずに光電変換層(60)に入射する。
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Língua de publicação: japonês (JA)
Língua de depósito: japonês (JA)