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1. (WO2019064472) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
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№ de pub.: WO/2019/064472 № do pedido internacional: PCT/JP2017/035416
Data de publicação: 04.04.2019 Data de depósito internacional: 29.09.2017
CIP:
G03F 7/20 (2006.01)
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
Requerentes:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventores:
昼岡 正樹 HIRUOKA, Masaki; --
Mandatário:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Dados da prioridade:
Título (EN) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV ET PROCÉDÉ DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV
(JA) UV光照射装置及びUV光照射方法
Resumo:
(EN) Disclosed is an UV light irradiation device (1) wherein: a supporting pin (20) supports a subject (50) to be irradiated with UV light (A) at the time of irradiating the subject (50) with the UV light; and a difference between the UV light (A) reflectance of a leading end section (22) of the supporting pin (20) and that of a surface (12) of a stage (10) is equal to 1 % or lower.
(FR) L'invention concerne un dispositif de rayonnement de lumière UV (1) dans lequel : une broche de support (20) supporte un sujet (50) à irradier avec une lumière UV (A) au moment de l'irradiation du sujet (50) avec la lumière UV; et une différence entre la réflectance de la lumière UV (A) d'une section d'extrémité avant (22) de la broche de support (20) et celle d'une surface (12) d'un étage (10) est égale à 1 % ou moins.
(JA) 支持ピン(20)は、被照射体(50)にUV光(A)を照射する際、被照射体(50)を支持し、支持ピン(20)の先端部(22)とステージ(10)の表面(12)との、UV光(A)の反射率の差が1%以下であるUV光照射装置(1)。
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Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: japonês (JA)
Língua de depósito: japonês (JA)