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1. (WO2019063561) SAMPLE PRE-CHARGING METHODS AND APPARATUSES FOR CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2019/063561 № do pedido internacional: PCT/EP2018/075996
Data de publicação: 04.04.2019 Data de depósito internacional: 25.09.2018
CIP:
H01J 37/02 (2006.01) ,H01J 37/04 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
J
VÁLVULAS DE DESCARGA ELÉTRICA OU LÂMPADAS DE DESCARGA
37
Válvulas de descarga com meios para introduzir objetos ou materiais a serem expostos à descarga, p. ex., para fins de exame ou processamento dos mesmos
02
Detalhes
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
J
VÁLVULAS DE DESCARGA ELÉTRICA OU LÂMPADAS DE DESCARGA
37
Válvulas de descarga com meios para introduzir objetos ou materiais a serem expostos à descarga, p. ex., para fins de exame ou processamento dos mesmos
02
Detalhes
04
Disposições de eletrodos e elementos associados para produzir ou controlar a descarga, p. ex., disposição óptico-eletrônica, disposição óptico-iônica
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
J
VÁLVULAS DE DESCARGA ELÉTRICA OU LÂMPADAS DE DESCARGA
37
Válvulas de descarga com meios para introduzir objetos ou materiais a serem expostos à descarga, p. ex., para fins de exame ou processamento dos mesmos
26
Microscópios eletrônicos ou iônicos; Válvulas de difração de elétrons ou de íons
28
com feixes de varredura
Requerentes:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventores:
LIU, Xuedong; US
XI, Qingpo; US
JIANG, Youfei; US
REN, Weiming; US
HU, Xuerang; US
CHEN, Zhongwei; US
Mandatário:
PETERS, John; NL
Dados da prioridade:
62/566,15329.09.2017US
Título (EN) SAMPLE PRE-CHARGING METHODS AND APPARATUSES FOR CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREILS DE PRÉ-CHARGEMENT D'ÉCHANTILLON POUR INSPECTION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Resumo:
(EN) Disclosed herein is an apparatus comprising: a source of charged particles configured to emit a beam of charged particles along a primary beam axis of the apparatus; a condenser lens configured to cause the beam to concentrate around the primary beam axis; an aperture; a first multi-pole lens; a second multi-pole lens; wherein the first multi-pole lens is downstream with respect to the condenser lens and upstream with respect to the second multi-pole lens; wherein the second multi-pole lens is downstream with respect to the first multi-pole lens and upstream with respect to the aperture.
(FR) Cette invention concerne un appareil comprenant : une source de particules chargées configurée pour émettre un faisceau de particules chargées le long d'un axe de faisceau primaire de l'appareil ; une lentille condensatrice configurée pour amener le faisceau à se concentrer autour de l'axe de faisceau primaire ; une ouverture ; une première lentille multipolaire ; une seconde lentille multipolaire, la première lentille multipolaire étant en aval par rapport à la lentille condensatrice et en amont par rapport à la seconde lentille multipolaire, la seconde lentille multipolaire étant en aval par rapport à la première lentille multipolaire et en amont par rapport à l'ouverture.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Inglês (EN)
Língua de depósito: Inglês (EN)